日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000
特點(diǎn):
。采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲常用加工條件
規(guī)格:
項(xiàng)目 | 說明 | |
---|---|---|
放電: | 類型: | 磁控二極管放電型(電場垂直于磁場) |
電極組成: | 反向平行盤(嵌入磁鐵) | |
電壓: | 0.4 kV DC(直流可變) | |
電流: | 40 mA DC | |
噴鍍速率 *1(): [條件]: 壓力:7 Pa 放電電流:40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm | Pt 靶(選配件): | 15 nm/min |
Pt-Pd 靶(選配件): | 20 nm/min | |
Au 靶(選配件): | 35 nm/min | |
Au-Pd 靶(選配件): | 25 nm/min | |
樣品尺寸: | 直徑: | φ60 mm |
高度: | 20 mm | |
機(jī)械泵: | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
靶材*2: | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
電源要求: | 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m) | |
尺寸: | 寬度: | 450 mm |
長度: | 391 mm | |
高度: | 390 mm | |
重量: | 主機(jī):約 25 kg 機(jī)械泵:約 28 kg |