HHV BT150和BT300
適用于電鏡樣晶制備以及其他常規(guī)科研用途的新型臺(tái)式鍍膜設(shè)備
技術(shù)信息：
BT150
腔室：真空玻璃制，圓柱體165mm直徑×150mm高，配內(nèi)爆防護(hù)罩；可選配200mm高度的腔室
初級(jí)真空泵： 12時(shí)／h抽速的雙級(jí)旋片真空泵；可選配無(wú)油干泵
分子泵（選項(xiàng)）：621/s抽速的渦輪分子泵
極限真空（無(wú)分子泵）：5×10E-2mba「（3分鐘內(nèi)）
極限真空（有分子泵） ：5×10E-5mba「（8分鐘內(nèi)）
輸入電源： 110/230V, 50/60Hz，單相
工藝附件
金屬濺射：?jiǎn)蝹€(gè)濺射靶槍?zhuān)?4mm直徑靶材）
適用濺射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, C「等
射選項(xiàng)：用于濺射易氧化的金屬（如Al），需配置分子泵選項(xiàng)
碳纖維蒸發(fā)： 脈沖沉積，可選擇電流及除氣模式
碳棒蒸發(fā)：脈沖沉積，可選擇電流及除氣模式
水冷SEM樣品臺(tái)： 6個(gè)SEM樣品位，水冷和偏壓功能
旋轉(zhuǎn)SEM樣品臺(tái)：6個(gè)SEM樣品位，單軸旋轉(zhuǎn)或行星運(yùn)動(dòng)式
常規(guī)科研用旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：適合4” 或100mm直徑基片
BT300
腔室： 真空玻璃制，圓柱體30mm直徑×150mm高，配內(nèi)爆防護(hù)罩；可選配200mm高度的腔室
初級(jí)真空泵：12時(shí)／h抽速的雙級(jí)旋片真空泵；可選配無(wú)油干泵
分子泵（選項(xiàng)）：621/s抽速的渦輪分子泵
極限真空（無(wú)分子泵）：5×10E-2mba「（12分鐘內(nèi)）
極限真空（有分子泵）： 5×10E-5mba「（20分鐘內(nèi)）
輸入電源： 110/230V, 50/60Hz，單相
工藝附件
金屬濺射： 單個(gè)、 雙個(gè)或者三個(gè)濺射靶槍?zhuān)?4mm直徑靶材）
適用射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, Cr等
濺射選項(xiàng)：用于濺射易氧化的金屬（如Al），需配置分子泵選項(xiàng)
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：常規(guī)科研用，適合4” 或100mm直徑基片（雙靶），或150mm直徑基片（三靶）
行星運(yùn)動(dòng)式樣品臺(tái)： 常規(guī)科研用，優(yōu)化沉積均勻性，適合200mm直徑基片（三靶）
認(rèn)證標(biāo)識(shí)：BT150和BT300具有CE標(biāo)識(shí)
主要特點(diǎn)
簡(jiǎn)單的操作
會(huì)全彩、 高分辨率、 觸摸屏控制系統(tǒng)
為可存儲(chǔ)和編輯工藝配方多達(dá)30個(gè)
會(huì)工藝數(shù)據(jù)可輸出到大容量存儲(chǔ)器或計(jì)算機(jī)
會(huì)可選的集成式薄膜厚度監(jiān)測(cè)儀
為自動(dòng)識(shí)別工藝附件
工功能的薄膜沉積技術(shù)
會(huì)惰性金屬濺射（SEM應(yīng)用）
為碳纖維及碳棒蒸發(fā)（TEM應(yīng)用）
會(huì)用于碳膜表面的親水改性的輝光放電裝置（TEM應(yīng)用）
會(huì)普通金屬的濺射鍍膜（常規(guī)科學(xué)研究應(yīng)用， 需要配分子泵選項(xiàng)）
會(huì)金屬的熱阻蒸發(fā)鍍膜
為自動(dòng)快門(mén)擋板的選項(xiàng)
多種樣晶臺(tái)
為水冷及偏壓的SEM樣品臺(tái)
女旋轉(zhuǎn)的SEM樣品臺(tái)
為行星式運(yùn)動(dòng)的SEM樣品臺(tái)
會(huì)適合4” 或100mm直徑基片的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（BT150)
為適合8” 或200mm直徑基片的旋轉(zhuǎn)／行星運(yùn)動(dòng)式樣品臺(tái)（BT300)
新型設(shè)計(jì)的HHV BT150和BT300是面向電鏡工作者及科學(xué)研究者需求的經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式鍍膜系統(tǒng)。BT150己具有電鏡工作者所需
的全面鍍膜能力， 而B(niǎo)T300配置了更大的真空腔室， 可滿(mǎn)足更廣泛的其他常規(guī)科研鍍膜應(yīng)用。
通常情況下， 這些系統(tǒng)采用金屬濺射來(lái)制備SEM樣品， 而采用碳纖維（或碳棒）蒸發(fā)來(lái)制備TEM樣品。碳蒸發(fā)鍍膜也可以用
于×射線(xiàn)微區(qū)分析的樣品。
BT系列系統(tǒng)還可配置成適合于常規(guī)科學(xué)研究需求的金屬濺射及金屬蒸發(fā)能力。
具有自動(dòng)樣晶鍍膜能力的觸摸屏操控系統(tǒng)
為了使用方便， 這兩款BT設(shè)備都配置了彩色的、 高分辨率的觸摸屏操控系統(tǒng)?？刂葡到y(tǒng)可存儲(chǔ)多達(dá)30個(gè)工藝配方程序， 可隨
時(shí)調(diào)用執(zhí)行?？刂葡到y(tǒng)能向外輸出工藝數(shù)據(jù) 便于存儲(chǔ)及分析。它還能自動(dòng)識(shí)別所安裝的工藝附件。
種類(lèi)繁多的可選樣晶臺(tái)
BT系列設(shè)備具有多種樣品臺(tái)可供選擇。用于承載SEM樣品座的靜態(tài)樣品臺(tái)具有水冷功能， 可防止樣品過(guò)熱， 而且還含有濺射
刻蝕及清洗的裝置。使用刻蝕裝置可以提高某些樣品的圖像對(duì)比度， 而不太脆弱的樣品還能通過(guò)刻蝕來(lái)去除吸附的水汽， 從而改善薄膜附著力。
BT150可選擇旋轉(zhuǎn)甚至行星運(yùn)動(dòng)式設(shè)計(jì)的樣品臺(tái)， 基片尺寸可達(dá)4英寸或者100mm。而B(niǎo)T300也可選擇類(lèi)似的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，其基片尺寸可達(dá)8英寸或者200mm， 滿(mǎn)足更廣泛的研究需要。
集成的薄膜厚度測(cè)量?jī)x
BT系列設(shè)備的選項(xiàng)中包括全集成式的薄膜厚度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)集成在觸摸屏控制器內(nèi)， 可提供濺射膜厚的控制。
簡(jiǎn)單的靶材更換
BT150和BT300采用簡(jiǎn)單快速的靶材更換設(shè)計(jì)， 在必要時(shí)可對(duì)樣品進(jìn)行不同材料的鍍膜。配置旋片泵的系統(tǒng)可以濺射惰性金屬，如金、 金／tE、 鈾和銅。增加可選的分子泵之后， 這兩款系統(tǒng)還能濺射容易氧化的金屬， 比如鋁。
真空泵選項(xiàng)
BT系列設(shè)備可以配置雙級(jí)旋片真空泵， 用于碳蒸發(fā)及惰性金屬濺射等普通應(yīng)用。而可選的分子泵可以提供設(shè)備更優(yōu)秀的性能：真正的高真空環(huán)境， 以及濺射非惰性金屬（比如鋁）的能力。
BT系列設(shè)備也可以配置干式真空泵， 滿(mǎn)足無(wú)油真空的要求。
安全設(shè)計(jì)及認(rèn)證
BT150和BT300具有完善的安全使用及互鎖設(shè)計(jì)， 確保操作人員安全。這些設(shè)備可以提供CE標(biāo)識(shí)以及UL認(rèn)證。
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