PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)
技術(shù)參數(shù):
襯底尺寸和類型
。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(雙面/背對(duì)背)
。高達(dá)400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(雙面/背對(duì)背)
。大批量的3D產(chǎn)品(例如:鐘表部件,珠寶,硬幣,醫(yī)療植入部件,機(jī)械部件等)
。多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品
工藝溫度: 50 - 500 °C
基片傳送選件:
。氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載,帶叉車forklift cart)
。全自動(dòng)轉(zhuǎn)載,用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn)
前驅(qū)體:
。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù)
。8根獨(dú)立源管線,最多加載12個(gè)前驅(qū)體源
重量: 2000 kg
尺寸:(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
選件: PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器,N2發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),與工廠軟件連接服務(wù)。
驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn): 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝