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芬蘭 PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALD

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/13 20:12:17
訪問(wèn)次數(shù)493

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國(guó)ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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芬蘭 PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALDPICOSUN R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。在最基本的PICOSUN R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立......

芬蘭 PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALD 產(chǎn)品信息

芬蘭 PICOSUN™ R-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALD

技術(shù)參數(shù)

。襯底尺寸和類型 50-200 mm /單片
。156 mm x 156 mm太陽(yáng)能硅片
。3D 復(fù)雜表面襯底
。粉末與顆粒
。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品
。工藝溫度：50 - 500 °C , 可選更高溫度
?；瑐魉瓦x件：氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載），預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock ）
。前驅(qū)體液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源，4根獨(dú)立源管線，最多加載6個(gè)前驅(qū)體源
。重量：350 kg
。尺寸： (W x H x D) 取決于選件
-最小146 cm x 146 cm x 84 cm
-189 cm x 206 cm x 111 cm
。選件：PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器，集成橢偏儀，QCM， RGA，N2 發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè) 計(jì)，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）
。驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3工藝

PICOSUN™ R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。
我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的，*分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。