2021-07-13 20:30:56318
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在線詢價圖片描述：
ICP-RIESI500德國Sentech等離子刻蝕機,等離子刻蝕設備SI500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結構刻蝕。通過在廣泛的溫度范圍內的動態(tài)溫度控制確保了可重復且穩(wěn)定的等離子刻蝕條件。深反應等離子刻蝕（硅，III-V族半導體，MEMS）可采用低溫工藝和室溫下的氣體切換工藝來實現(xiàn)。
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