一、設備特點:
該設備為Φ1200x6000水冷真空腔室,配移動式公自轉工裝架,工裝架裝載量10-20只,公自轉工裝架點對點自動運行;設備帶偏壓清洗及輔助沉積功能,工藝加熱溫度300℃;設備配5只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶;可鍍Au、Ag、AL、Mo、Cu、Ti等多種底層金屬,及由AL、Ti、Si等構成的多層陶瓷膜;系統(tǒng)滿足光干涉膜、金屬陶瓷膜等多種選擇性吸熱膜的研制和小批生產(chǎn)。
二、性能參數(shù):
1. 工件長度:長度規(guī)格2米、4米
2. 不銹鋼金屬管直徑范圍:Φ70mm-120mm
3. 吸收率≥95%
4. 發(fā)射率 ≤9%(300℃)
5. 鍍膜方式:磁控濺射沉積選擇性吸收膜
6. 設備產(chǎn)能:2萬支/年(20只裝)
7. 極限真空:8x10-4Pa,本底真空:3.2x10-3Pa;
8. 工藝加熱溫度:300℃ 鎧裝加熱組件;
9. 磁控靶:5個;
10. 磁控電源:直流 1套 中頻 2套;
11. 偏壓電源:1套;
控制系統(tǒng):PC+PLC控制模式,自動/手動/修理調(diào)試功能轉換;多種工藝參數(shù)儲存,多種互鎖安全保護;