一、設備特點：
該設備為Φ1200x6000水冷真空腔室，配移動式公自轉工裝架，工裝架裝載量10-20只，公自轉工裝架點對點自動運行；設備帶偏壓清洗及輔助沉積功能，工藝加熱溫度300℃；設備配5只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶；可鍍Au、Ag、AL、Mo、Cu、Ti等多種底層金屬，及由AL、Ti、Si等構成的多層陶瓷膜；系統(tǒng)滿足光干涉膜、金屬陶瓷膜等多種選擇性吸熱膜的研制和小批生產(chǎn)。
二、性能參數(shù)：
1. 工件長度：長度規(guī)格2米、4米
2. 不銹鋼金屬管直徑范圍：Φ70mm-120mm
3. 吸收率≥95%
4. 發(fā)射率 ≤9%（300℃）
5. 鍍膜方式：磁控濺射沉積選擇性吸收膜
6. 設備產(chǎn)能：2萬支/年（20只裝）
7. 極限真空：8x10-4Pa，本底真空：3.2x10-3Pa；
8. 工藝加熱溫度：300℃ 鎧裝加熱組件；
9. 磁控靶：5個；
10. 磁控電源：直流 1套 中頻 2套；
11. 偏壓電源：1套；
控制系統(tǒng)：PC+PLC控制模式，自動/手動/修理調(diào)試功能轉換；多種工藝參數(shù)儲存，多種互鎖安全保護；
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