單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀,專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體,配有帶擋板的觀察窗,可以觀察鍍膜過程,擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽,便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設(shè)計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設(shè)計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手.
光纖鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
繞絲機構(gòu) | 尺寸 | Φ15mmx245mm |
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| 繞絲速度 | 1-300r/min |
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磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2 英寸 x1 | 冷卻方式 | 水冷 |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Φ213mm X 307mm | 觀察窗口 | φ80mm |
腔體材料 | 不銹鋼 304 | 開啟方式 | 上頂開式、左側(cè)開式 | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1 臺 | 輸出功率 | ≤300W |
匹配方式 | 自動匹配 |
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水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L | 流量 | 10L/min |
供氣系統(tǒng) | 類型 | 手動微量調(diào)節(jié)閥 |
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真空系統(tǒng) | 前級泵 | 雙極旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
次級泵 | 渦輪分子泵 | 抽速 | 60L/s | |
抽氣口 | ISO63 | 出氣口 | KF16 | |
真空計 | 復合真空計 | |||
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機功率 | 2kw |