CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積,實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置.
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
輸入功率 | ·單相110V AC,50/60Hz ·1000W(含真空泵和冷水機(jī)) |
磁控濺射靶 | ·包括三個(gè)帶水冷夾套的 2" 磁控濺射頭,通過快速夾具插入石英室 ·射頻電纜更換可在CYKY購(gòu)買 ·法蘭上內(nèi)置一個(gè)手動(dòng)百葉窗 ·包括一臺(tái)10L/min數(shù)控循環(huán)冷水機(jī),用于冷卻濺射頭 |
濺射靶材 | ·靶材尺寸要求:2" 直徑 x 1/8" *大厚度 ·濺射距離范圍:50-80mm可調(diào) ·濺射角度范圍:0-25°可調(diào) ·2"直徑Cu靶和Al2O3靶包括用于演示測(cè)試 ·可根據(jù)要求提供各種氧化物 2" 濺射靶材,但需額外付費(fèi) ·對(duì)于目標(biāo)鍵合,包括 1 mm 和 2 mm 銅背板。 |
真空腔體 | ·真空腔體:300 毫米外徑 x 500 毫米高,由不銹鋼制成 ·密封法蘭:直徑274毫米。由鋁制成,帶有高溫硅膠O型圈 ·包括不銹鋼屏蔽籠,99% 屏蔽來自腔室的射頻輻射 ·*大真空度:1.0E-5 Torr,可選配渦輪泵和腔體烘烤 |
樣品臺(tái) | ·樣品臺(tái)是一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的加熱臺(tái),由陶瓷加熱器制成,帶有不銹鋼蓋 ·樣品臺(tái)尺寸:直徑50毫米,適合*大 2" 晶圓 ·轉(zhuǎn)速:1-10轉(zhuǎn)可調(diào),涂層均勻 ·支架溫度可從室溫調(diào)節(jié)至*高 600 °C(600 °C 時(shí)*高 5 分鐘;500 °C 時(shí)*高 2 小時(shí)),通過數(shù)字溫度控制器精度為 +/- 1.0 °C |
真空泵 | ·內(nèi)置KF40真空接口,用于連接真空泵。 ·真空度:1.0E-2 Torr 含雙級(jí)機(jī)械泵 1.0E-3 Torr 帶可選渦輪泵 |
整機(jī)尺寸 | 540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H |
包裝重量 | 大約 145 kg |
保修單 | 一年有限保修,終身支持 |
是否支持定制 | 是 |