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臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-VTC-3DC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/16 9:32:41
  • 訪問次數(shù)377
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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡(jiǎn)單介紹: CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積,實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置
臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積,實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置.

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

輸入功率
 

·單相110V AC,50/60Hz

·1000W(含真空泵和冷水機(jī))

磁控濺射靶
 

·包括三個(gè)帶水冷夾套的 2" 磁控濺射頭,通過快速夾具插入石英室

·射頻電纜更換可在CYKY購(gòu)買

·法蘭上內(nèi)置一個(gè)手動(dòng)百葉窗

·包括一臺(tái)10L/min數(shù)控循環(huán)冷水機(jī),用于冷卻濺射頭

濺射靶材

·靶材尺寸要求:2" 直徑 x 1/8" *大厚度

·濺射距離范圍:50-80mm可調(diào)

·濺射角度范圍:0-25°可調(diào)

·2"直徑Cu靶和Al2O3靶包括用于演示測(cè)試

·可根據(jù)要求提供各種氧化物 2" 濺射靶材,但需額外付費(fèi)

·對(duì)于目標(biāo)鍵合,包括 1 mm 2 mm 銅背板。

真空腔體

·真空腔體:300 毫米外徑 x 500 毫米高,由不銹鋼制成

·密封法蘭:直徑274毫米。由鋁制成,帶有高溫硅膠O型圈

·包括不銹鋼屏蔽籠,99% 屏蔽來自腔室的射頻輻射

·*大真空度:1.0E-5 Torr,可選配渦輪泵和腔體烘烤

樣品臺(tái)

·樣品臺(tái)是一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的加熱臺(tái),由陶瓷加熱器制成,帶有不銹鋼蓋

·樣品臺(tái)尺寸:直徑50毫米,適合*大 2" 晶圓

·轉(zhuǎn)速:1-10轉(zhuǎn)可調(diào),涂層均勻

·支架溫度可從室溫調(diào)節(jié)至*高 600 °C600 °C 時(shí)*高 5 分鐘;500 °C 時(shí)*高 2 小時(shí)),通過數(shù)字溫度控制器精度為 +/- 1.0 °C

真空泵 

·內(nèi)置KF40真空接口,用于連接真空泵。

·真空度:1.0E-2 Torr 含雙級(jí)機(jī)械泵

1.0E-3 Torr 帶可選渦輪泵

整機(jī)尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H

包裝重量

大約 145 kg

保修單

一年有限保修,終身支持

是否支持定制

 

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