詳情介紹:
迷你石墨烯CVD設備
本套CVD系統(tǒng)專為石墨烯生產設計,采用1200℃迷你管式爐,配有高精度質量流量計以及薄膜真空規(guī)。相比于常規(guī)的皮拉尼電阻規(guī),薄膜規(guī)的讀數**,不受氣體種類影響,十分適合真空鍍膜工藝。同時設備配有可燃氣體檢測裝置,聯(lián)動出氣口電磁閥,一旦出現泄漏電磁閥即可自行關閉保證安全。
該套設備功能**占地面積較小,十分適合實驗室規(guī)模的CVD制備。
特點
1.高精度質量流量計以及薄膜真空規(guī)。
2.可燃氣體檢測裝置,聯(lián)動出氣口電磁閥。
3.體積小巧
4.專為石墨烯生產設計
技術參數
1200℃迷你管式爐 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
功率 | 2KW max | |
加熱溫區(qū) | 單溫區(qū)200mm | |
恒溫區(qū)長 | 100mm | |
加熱元件 | 耐熱合金絲 | |
熱電偶 | K型 | |
工作溫度 | ≤1150℃ | |
升溫速率 | 建議≤10℃/min | |
控溫精度 | ±1℃ | |
控溫方式 | AI-PID 30段工藝曲線,帶有過熱和斷偶保護 | |
爐管材質 | 高純石英 | |
爐管尺寸 | φ50mm O.D x 450mm L | |
真空泵 | 機械泵 抽速1.1L/s | |
極限真空 | 5Pa |
三路浮子流量計 | 閥門類型 | 不銹鋼針閥 |
氣路數量 | 三路 | |
承壓范圍 | 0.05~0.3MPa | |
量程 | Ar 0~500sccm H2 0~200sccm CH4 0~10sccm | |
流量控制范圍 | ±1.5% | |
混氣罐容積 | 750mL | |
氣路材料 | 304不銹鋼 | |
管道接口 | 6.35mm卡套接頭 | |
供電電源 | AC220V 50Hz |