設(shè)備技術(shù)參數(shù)
1、使用條件:環(huán)境溫度5℃~40℃ 電源:三相380 V,功率:≤20 KW,水壓:≤2.5bar
2、真空室尺寸:蒸發(fā)室尺寸:φ500×H500(㎜)
3、電子槍:新型電子槍1套,6穴坩堝
4、樣品轉(zhuǎn)盤(pán):樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃
5、系統(tǒng)真空度:
? 極限真空:經(jīng)12~24小時(shí)烘烤,連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa
? 抽氣速率:從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa
? 系統(tǒng)漏率:整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,測(cè)量真空室真空度≤10Pa
6、抽真空系統(tǒng):FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣
7、鍍膜監(jiān)測(cè):采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
8、鍍膜厚度的不均勻度≤6%