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雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻...

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-MSP300S-RFDC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2020/12/31 17:14:47
  • 訪問次數(shù)536
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡單介紹: 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻... 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實驗效率。

雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:

雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)

樣品臺

尺寸

φ185mm

控溫精度

±1

加熱溫度

*高500

轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭

數(shù)量

2” x2 1”,2”可選)

水冷機(jī)規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)

冷卻方式

水冷

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm × 300mm

觀察窗口

φ100mm

腔體材料

不銹鋼

開啟方式

上頂開式

質(zhì)量流量計

2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路)

真空系統(tǒng)

產(chǎn)品型號

CY-GZK103-A

抽氣接口

KF40

分子泵

CY-600

排氣接口

KF16

前極泵

旋片泵

真空測量

復(fù)合真空計

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達(dá): 1.0E-3Pa

電源配置

數(shù)量

直流電源 x1 射頻電源x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源300W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)尺寸

600mm × 650mm ×1280mm

整機(jī)功率

2.5KW

整機(jī)重量

300kg


關(guān)鍵詞:電磁閥 真空泵
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