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單室磁控濺射鍍膜儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-SC
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2020/12/31 14:11:45
  • 訪問次數332
產品標簽:

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內,是一家專業(yè)從事材料制備設備和材料制備原料代理的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術及設備和原料的提供商。 鄭州成越科學儀器有限公司的“研發(fā)團隊”憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學儀器有限公司 近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發(fā),使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。
壓片機
簡單介紹: 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。單室磁控濺射鍍膜儀可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
單室磁控濺射鍍膜儀 產品信息
詳情介紹:

單室磁控濺射鍍膜儀設備用途:

用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

單室磁控濺射鍍膜儀技術參數:

真空室

圓型真空室,尺寸? 450×50mm

真空系統配置

復合分子泵、機械泵、閘板閥

極限壓力

6.67*10-5 Pa (經烘烤除氣后)

恢復真空時間

40 分鐘可達到6 .6*10-4 Pa 。(系統短時間暴露大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣)

磁控靶組件

永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內水冷;三個靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~110mm可調;當直接向上濺射時,靶與樣品距離40~80mm可調

基片水冷加熱公轉臺

基片結構

基片加熱與水冷獨立工作,取下加熱爐可以換上水冷基片臺

樣品尺寸

?30mm

運動方式

基片可連續(xù)回轉,轉速 5~10 轉/分

加熱

基片加熱*高溫度600±1

基片負偏壓

200V

氣路系統

控制器 2

計算機控制系統

控制樣品轉動,擋板開關,靶位確認等

可選配件6工位基片加熱公轉臺

拆下單基片水冷加熱臺可以換上該轉臺??赏瑫r放置630mm的基片;6個工位中,其中一個工位安裝加熱爐,其余工位為自然冷卻基片臺;基片加熱*高溫度600 ±1

設備占地面積

主機

I300×800mm2

電控柜

70×700m2

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關鍵詞:控制器
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