詳細(xì)介紹
CY-MSP210S-2DC桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實(shí)驗(yàn)室真空PVD鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
名稱 | 桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 |
型號(hào) | CY-MSP210S-2DC |
特點(diǎn) |
|
技術(shù)參數(shù) | 1. 供電電壓 AC220V,50Hz 2. 整機(jī)功率 4KW 3. 載樣臺(tái)參數(shù) 5. 磁控濺射頭參數(shù) 6. 真空腔體 7. 氣體流量控制器 1路200sccm Ar; 8. 真空泵 分子泵組 前級(jí)泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 9. 膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ? 10. 濺射電源(2DC) |