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?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀

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  • 型號(hào) CY-MSP210S-2DC
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  • 廠商性質(zhì) 其他
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更新時(shí)間:2023-02-15 11:52:56瀏覽次數(shù):313

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹: ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備,?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

CY-MSP210S-2DC桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實(shí)驗(yàn)室真空PVD鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。


名稱

桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀
型號(hào)
CY-MSP210S-2DC
特點(diǎn)

1.采用高真空不銹鋼腔體,前開門式設(shè)計(jì),門上配有石英觀察窗,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄。

2.配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。

3.頂蓋上裝有一套擋板,可通過轉(zhuǎn)動(dòng)擋板切換兩支靶,實(shí)現(xiàn)多層鍍膜。

4.需要配合高真空分子泵組一起使用,用戶可以選擇進(jìn)口品牌小型分子泵以進(jìn)一步節(jié)省安裝面積。

5.可選配膜厚儀組件,可實(shí)時(shí)監(jiān)測膜厚數(shù)據(jù),為實(shí)驗(yàn)工藝提供可靠參數(shù)。

技術(shù)參數(shù)
1.  供電電壓 AC220V,50Hz
2.  整機(jī)功率 4KW
3.  載樣臺(tái)參數(shù) 
     尺寸 φ100mm;加熱溫度 *高500℃;控溫精度 ±1℃;轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào)
5.  磁控濺射頭參數(shù) 
     數(shù)量 2個(gè)2"磁控濺射頭;水冷
6.  真空腔體 
     尺寸φ210mm X 260mm H; 材料 不銹鋼; 觀察窗口 φ40mm;前開門式
7.  氣體流量控制器 1路200sccm Ar;
8.  真空泵 分子泵組
     前級(jí)泵 旋片泵 抽速 1.1L/s
     次級(jí)泵 渦輪分子泵(國產(chǎn)) 抽速 600L/s
     抽氣口 KF40 出氣口 KF16
9.  膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?
10. 濺射電源(2DC)
     直流電源 2臺(tái),輸出功率≤300W,輸出電壓≤600V,響應(yīng)時(shí)間<5ms



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