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美國 KRI 霍爾離子源 eH 2000

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更新時(shí)間：2021-10-06 17:11:04瀏覽次數(shù)：258次

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經(jīng)營模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：137條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：朱珠 （銷售助理）

產(chǎn)品簡介

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

詳細(xì)介紹

美國 KRI 霍爾離子源 eH 2000 產(chǎn)品特性：

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性：

1.水冷 - 與 KRI 霍爾離子源 eh 1000 對(duì)比, 提供更高的離子輸出電流

2.可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便

5.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

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