上海依肯機械設備有限公司
主營產品: 乳化機,高剪切乳化機,實驗室乳化機,膠體磨,均質機,高剪切分散機,實驗室均質機,實驗室分散機,實驗室膠體磨,乳化泵 |
上海依肯機械設備有限公司
主營產品: 乳化機,高剪切乳化機,實驗室乳化機,膠體磨,均質機,高剪切分散機,實驗室均質機,實驗室分散機,實驗室膠體磨,乳化泵 |
參考價 | 面議 |
產地 | 進口 | 產品大小 | 中型 |
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產品新舊 | 全新 | 結構類型 | 立式 |
IKN研磨粉碎機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機,氫氧化鋁漿料研磨粉碎機,阻燃劑研磨粉碎機,氫氧化鋁研磨粉碎機,ATH阻燃劑研磨粉碎機,14400轉超高速研磨粉碎機
氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多*的優(yōu)點,且來源豐富,價格低廉,應用范圍廣,品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對聚合物起增強作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點,因此研究其粒度超細化、表面改性處理技術、協(xié)同復合技術、納米技術正成為世界各國研究者的re點問題。
氫氧化鋁的超微細化增加了氫氧化鋁的表面積,使粒子表面蒸氣壓降低,明顯增強阻燃效果,同時提高材料制品的力學性能和耐熱性能。
然而,要獲得超細的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質的分散設備,傳統(tǒng)的分散設備,一方面無法將氫氧化鋁漿料進一步細化,另一方分散效果不佳。上海IKN結合多家阻燃劑廠家,可知,采用依肯CMSD2000系列研磨粉碎機對氫氧化鋁漿料進行進一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。
IKN研磨粉碎機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鋁分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。IKN研磨粉碎機二級工作組,轉速高達14000rpm,剪切力強,分散更*。氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機,氫氧化鋁漿料研磨粉碎機,阻燃劑研磨粉碎機,氫氧化鋁研磨粉碎機,ATH阻燃劑研磨粉碎機,14400轉超高速研磨粉碎機
粉碎操作的種類(按細度分)
①粗粉碎:原料粒度在40~1500mm范圍內,成品粒度若5~50mm
②中粉碎:原料粒度在10~100mm 范圍內 ,成品粒度若 5~10mm
③微粉碎:原料粒度在5~10 mm 范圍內 , 成品粒度若100μm以下
④超微粉碎:原料粒度0.5~5mm范圍內,成品粒度10~25μm以下。
粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
產品效果:
guo內粉碎機,粒徑細度有限,10微米以下較困難,重復性差,產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機,可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎
CMSD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質研磨粉碎機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過研磨粉碎機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMSD2000系列研磨粉碎機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
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影響研磨效果的因素:
1 磨頭的形式(臥式和立式)
2 磨頭頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結構(見磨頭結構)
4 物料在磨頭墻體的停留時間,乳化分散時間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,研磨速率取決于以下因素:
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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高剪切工作過程:
1.在高速旋轉的轉子產生的離心力作用下,物料從工作頭的上下進料區(qū)域同時從軸向吸入工作腔。
2.強勁的離心力將物料從徑向甩入定、轉子之間狹窄精密的間隙中。同時受到離心擠壓、撞擊等作用力,使物料初步分散乳化。
3.在高速旋轉的轉子外端產生至少15m/s以上的線速度,zui高可至40m/s,并形成強烈的機械及液力剪切、液層摩擦、撞擊撕裂,使物料充分的分散、乳化、均質、破碎、同時通過定子槽射出。研磨粉碎機就是通過與發(fā)動機連接的均質頭的高速旋轉,對物料進行剪切,分散,撞擊。這樣物料就會變得更加細膩,促使油水相融。食品行業(yè)中的醬,果汁等。制藥行業(yè)中的軟膏。石油化工,油漆涂料油墨等都會用到研磨粉碎機。在實驗或工業(yè)生產過程中所要進行的混合、攪拌、分散、均質、乳化和研磨的應用。
4.物料不斷高速地從徑向射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動湍流。物料經過數(shù)次循環(huán),zui終完成分散、乳化、均質過程。
用轉子-定子裝置濕磨物質具有諸多好處:
· 研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
· 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質保持在系統(tǒng)內,從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學品,尤其是優(yōu)質物質,或者有毒物質的研磨。
· 相對干磨過程而言,濕磨的產品進料和計量較容易。
IKN濕磨機基于轉子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大,可實現(xiàn)10微米及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機被用于諸多應用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。
工藝應用:
☆食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質 ☆可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
☆動物和植物組織的超細破碎及漿化加工 ☆不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散
☆不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散 ☆納米材料團聚物的強力解聚與超細分散
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