單晶爐氬氣凈化裝置拉晶氬氣凈化器

單晶爐氬氣凈化裝置氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過對本裝置的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達(dá)到要求，贏得客戶的滿意和市場的需求。

單晶爐氬氣凈化裝置由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進(jìn)入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，這樣穩(wěn)定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有保證的。

 單晶爐氬氣凈化裝置拉晶氬氣凈化器氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設(shè)計的。全自動氬氣純化裝置，具有觸摸面板一鍵式啟動、停止工作，操作簡單明了。裝置工作設(shè)有兩組工作組，交替工作，循環(huán)使用。其中一組工作，另一組再生冷卻備用。工作組工作無需加熱，為常溫工作。對應(yīng)面板觸摸屏可查看設(shè)備組成硬件、操作簡介、觀察、監(jiān)視工作組工作狀態(tài)、再生組再生狀態(tài)、工作組工作時間、切換時間、設(shè)備總工作時間、再生加氫及加熱時間和報警信息狀態(tài)。

單晶爐氬氣凈化裝置全自動氬氣純化裝置特點：

1.       設(shè)備外形色彩噴漆為乳黃色，采用烤漆形式，美觀耐用，填裝凈化材料容器內(nèi)壁做表面處理。

2.       選材優(yōu)良，氬氣流經(jīng)閥門，管道選用316材質(zhì),*解決氣源重復(fù)污染，純氣出口管路采用B*，保證純氣的潔凈如一。

3.       嚴(yán)格的質(zhì)量控制，在制作過程中，邀請需方作全過程跟蹤督察。

4.       進(jìn)出口微氧分析儀在線監(jiān)測，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。

5.       純氣zui終過濾系統(tǒng)一用一備，更具人性化，*解決*運行顧慮。

6.       加氫還原系統(tǒng)采用質(zhì)量流量計控制，真正做到定時定量全自動運行。

7.       一鍵式啟動設(shè)備，工作狀態(tài)實時顯示，操作簡單、安全、明了。

單晶爐氬氣凈化裝置設(shè)備工作原理

設(shè)備工作設(shè)有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復(fù)利用材料。原料液氬經(jīng)汽化器汽化后由設(shè)備工作進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備一組工作組，經(jīng)脫氧劑、分子篩及精密高效過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負(fù)荷飽和后，切換到另一組工作組工作，保證為使用點連續(xù)的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統(tǒng)加氫是為了還原脫氧劑，加氫結(jié)束后設(shè)備自動吹洗并直接放空），為等待下一次切換使用做好準(zhǔn)備。

裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可達(dá)到并高于GB高純氬氣標(biāo)準(zhǔn)。

二 主要技術(shù)條件

1 處理氣量                         ≥2-320Nm3/h

2 工作壓力                         ＜0.8Mpa

3 原料氬氣純度                     ≥99.999%

4 純化后                         O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm

CH4＜0.2 ppm    H2O≤1ppm

5 耗氫量                            0.4m3/h（再生6小時

5 電源電壓                          380V 50HZ

6 裝機功率                          22.5KW   （再生6.5小時）

7 冷卻水用量                        1m3/h   （水溫應(yīng)＜30℃

8 需提供壓縮空氣壓力               ＞0.4Mpa  （干燥無雜質(zhì)）