詳細介紹
納米氧化鋯石墨烯復(fù)合材料高速剪切研磨分散機,氧化鋯復(fù)合材料高速分散機,石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國IKN石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
詳情請接洽上海依肯,段,(同)
目前某院和企業(yè)使用上海依肯機械設(shè)備的高速剪切研磨分散機研發(fā)合成氧化鋯/石墨烯復(fù)合材料,實現(xiàn)對Re(VII)的高效富集。
氧化鋯不僅具有介孔材料比表面積大、孔徑均一的特點,而且同時具有酸性與堿性表面中心,易產(chǎn)生氧空缺,因而具有良好的吸附性能,在污水處理方面有廣闊的應(yīng)用前景。
氧化鋯具有正方晶胞結(jié)構(gòu)和單斜晶胞結(jié)構(gòu)。陳長倫課題組通過理論計算發(fā)現(xiàn),Re(VII)與正方晶胞結(jié)構(gòu)的氧化鋯結(jié)合比與單斜晶胞結(jié)構(gòu)的氧化鋯結(jié)合能更大,結(jié)合更穩(wěn)定。
課題組通過把氧化鋯負載在石墨烯上,氧化鋯單斜晶胞結(jié)構(gòu)全部轉(zhuǎn)化成正方晶胞結(jié)構(gòu),同時氧化鋯和石墨烯形成協(xié)同富集效應(yīng),因而氧化鋯/石墨烯復(fù)合材料對Re(VII)的富集能力大大增強。錸Re作為與锝Tc同處于VIIB族的元素,與锝具有相似的化學性質(zhì),常被用來作為锝的非放射性模擬元素。因此氧化鋯/石墨烯復(fù)合材料可以用來富集還原高價態(tài)的易溶Tc(VII),從而治理放射性Tc(VII)污染。
石墨烯(Graphene)是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和少層石墨烯的統(tǒng)稱。石墨烯一直被認為是假設(shè)性的結(jié)構(gòu),無法單獨穩(wěn)定存在,直至2004年,英國曼徹斯特大學物理學家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·諾沃肖洛夫(KonstantinNovoselov),成功地在實驗中從石墨中分離出石墨烯,而證實它可以單獨存在,兩人也因“在二維石墨烯材料的開創(chuàng)性實驗",共同獲得2010年諾貝爾物理學獎。并且,石墨烯在自然界也有產(chǎn)出,它體現(xiàn)為高能物理狀態(tài)下的圈量子的粒子態(tài)相。
當前石墨烯產(chǎn)業(yè)化存在五大難點:石墨烯制備成本較高,良品率有待提升;主流制備方法各有優(yōu)劣,工藝不穩(wěn)定,技術(shù)有待改善;前期研發(fā)投入資金需求量大;下游需求方向尚不十分明確,需求藍海難估;產(chǎn)業(yè)鏈延伸需要各環(huán)節(jié)配套,與下游需求對接尚待時日。
納米氧化鋯石墨烯復(fù)合材料高速剪切研磨分散機,氧化鋯復(fù)合材料高速分散機,石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國IKN石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機
德國IKN石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機的分散效果
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
氧化鋯石墨烯復(fù)合材料高速剪切研磨分散機設(shè)備的參數(shù)
陶瓷膠體磨 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/輸出連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMOD 2000/4 | 50 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
CMOD 2000/5 | 200 | 105,000 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
CMOD 2000/10 | 500 | 7,200 | 44 | 22 | DN50/DN50 |
CMOD 2000/20 | 1500 | 4,250 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
CMOD 2000/30 | 3000 | 2,820 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
CMOD 2000/50 | 6000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
,石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國IKN石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機詳情請接洽上海依肯,段,(同)