詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺(tái)公自...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等...

詳細(xì)摘要： 磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦...