LMP-4金相試樣雙盤自動磨拋機

LMP-4型自動磨拋機為單盤臺式機，是中心力加壓和單點加壓的一體機，是依據(jù)國際標準，采用工藝技術制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研拋光設備。具備磨拋盤旋轉方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器和氣動單點加載等功能。本機采用了的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉速實現(xiàn)無級可調，制樣壓力、時間設定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應用性。具有轉動平穩(wěn)、安全可靠、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點。

LMP-4型自動磨拋機為單盤臺式機，是中心力加壓和單點加壓的一體機，是依據(jù)國際標準，采用工藝技術制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研拋光設備。具備磨拋盤旋轉方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器和氣動單點加載等功能。本機采用了的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉速實現(xiàn)無級可調，制樣壓力、時間設定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應用性。具有轉動平穩(wěn)、安全可靠、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點。

本機帶有水冷卻裝置，可以在研磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織并隨時將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標準件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。

適用于對金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過程進行自動制樣。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。

主要技術指標：

磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm、φ300mm）

磨拋盤轉速：50-1000 r/min（無極調速）以及400 / 600 / 800 / 1000 r/min（四級定速）

磨拋盤轉向：可調正反轉選擇

磨拋頭轉速：5-150 r/min（無極調速）

制備樣數(shù)量：4個

加荷范圍：0-0.7Mpa可調，出廠參數(shù)設置為0.2Mpa以內

制樣時間：0-3000 S

試樣直徑：出廠標配φ30mm（可訂制直徑φ22-φ45mm）

輸入電壓：單相AC220V 50Hz

總功率：900W

外形尺寸：750*550*670mm

凈重：85KG

毛重：90KG