詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：●采用上進(jìn)氣下抽氣的方式，的抽氣擋板保證優(yōu)良的均勻性

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：●結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證傳動系統(tǒng)的穩(wěn)定性

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：1.適用于大批量PCB/FPC等產(chǎn)品應(yīng)用范圍廣

詳細(xì)摘要： 大型部件等離子設(shè)備是一種高科技設(shè)備，其工作原理基于等離子體的產(chǎn)生和利用

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：1.采用自動控制界面和觸摸屏人機(jī)界面，操作方便2.的型腔設(shè)計(jì)，清洗均勻性好，清洗質(zhì)量高3.它采用兩層結(jié)構(gòu)，每層4-6個料盒，結(jié)合化學(xué)反應(yīng)性和物理沖擊，...

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：●性價比高，可通過組件和載具進(jìn)行形式轉(zhuǎn)換，兼容不同形狀大小的料片

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：（1）采用自動控制界面和觸摸屏人機(jī)界面，操作方便且可隨時實(shí)時工藝監(jiān)控

詳細(xì)摘要： 等離子去膠機(jī)ASHER是一種用于去除電子元器件背面粘膠的專用設(shè)備

詳細(xì)摘要： ALD（AtomicLayerDeposition）是一種通過原子層沉積技術(shù)在晶體表面逐層沉積原子薄膜的方法

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：●顯著改善表面親水性，增強(qiáng)結(jié)合力●去除表面油污，指紋等有機(jī)物污染●走板速度2~4米/分鐘，可雙面處理，可根據(jù)產(chǎn)能來定制設(shè)備●大氣壓下處理，不需要特殊氣...

詳細(xì)摘要： 近年來，大氣問題已經(jīng)成為性的環(huán)境難題

詳細(xì)摘要： 鏤空板等離子設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備

詳細(xì)摘要： 大氣單機(jī)軌道式等離子設(shè)備是一種新型的高科技設(shè)備，可以利用等離子技術(shù)將大氣中的有害物質(zhì)分解和去除，以改善空氣質(zhì)量

詳細(xì)摘要： 單機(jī)連線式等離子設(shè)備是一種革命性的技術(shù)，可以在不接觸物體的情況下進(jìn)行殺菌、除臭和清潔等功能

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：?顯著改善表面親水性，增強(qiáng)結(jié)合力?去除表面油污，指紋等有機(jī)物污染?水平線式，走板速度2~6米/分鐘?大氣壓下處理，不需要特殊氣體，安裝使用簡便

詳細(xì)摘要： 全自動化等離子設(shè)備--PLASMA+柔性自動化系統(tǒng)（柔性、高性、布局靈活)產(chǎn)品特點(diǎn):1.的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu):縮小設(shè)備整體占地面積

詳細(xì)摘要： 20層垂直等離子設(shè)備--高產(chǎn)出、低成本產(chǎn)品特點(diǎn):1.采用上進(jìn)氣下抽氣的方式,的抽氣擋板保證優(yōu)良的均勻性

詳細(xì)摘要： IC載板在線式PLASMA--雙腔全自動、無接觸產(chǎn)品特點(diǎn):可選配自動上下料/連線，避免人員接觸產(chǎn)品，全自動方式減少了人為因素,降低二次污染并節(jié)約了人力成本