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Zeta電位及納米粒度分析儀

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)zate

品       牌捷鈦儀器

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2024-10-21 15:42:08瀏覽次數(shù):101次

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Zeta電位及納米粒度分析儀
納米粒度測量——?jiǎng)討B(tài)光背散射技術(shù)隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級(jí)別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細(xì)顆粒分析儀器UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功

 

Zeta電位及納米粒度分析儀

技術(shù)參數(shù):

粒度分析范圍: 0.3nm-10µm

重現(xiàn)性:誤差≤1%

濃度范圍:ppb-40%

檢測角度:180°

分析時(shí)間:30-120

準(zhǔn)確性:全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子

測量精度: 無需預(yù)選,依據(jù)實(shí)際測量結(jié)果,自動(dòng)生成單峰/多峰分布結(jié)果

理論設(shè)計(jì)溫度:0-90℃,可以進(jìn)行程序升溫或降溫

兼容性:兼容任何有機(jī)溶劑及大多數(shù)酸性或堿性溶液 

測量原理:

粒度測量:動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理分子量測量:水力直徑或德拜曲線技術(shù):膜電極,微電場電勢測量,“Y"型光纖探針設(shè)計(jì),異相多普勒頻移,可控參比方法,快速傅立葉轉(zhuǎn)換算法,非球形顆粒校正因子

光學(xué)系統(tǒng):

3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號(hào),無需校正光路 

軟件系統(tǒng):

先進(jìn)的Microtrac FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個(gè)性化輸出報(bào)告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強(qiáng)分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護(hù),電子簽名和授權(quán)等。

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC5A,50/60Hz環(huán)境要求:溫度,10-40°C相對濕度:小于95%

 配置:

有內(nèi)置和外置光纖測量探頭可選

Zeta電位及納米粒度分析儀

主要特點(diǎn):﹡采用的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法﹡的“Y"型光纖光路系統(tǒng),通過藍(lán)寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應(yīng)產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。﹡的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),提高分析結(jié)果的可靠性。﹡的可控參比方法(CRM),能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。﹡超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì),減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準(zhǔn)確性。﹡的快速傅利葉變換算法(FFT,Fast FourierTransform Algorithm Method,迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時(shí)間。﹡膜電極設(shè)計(jì),避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準(zhǔn)確測量顆粒電泳速度。﹡無需比色皿,毛細(xì)管電泳池或外加電極池,僅需點(diǎn)擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果﹡消除多種空間位阻對散射光信號(hào)的干擾,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

 

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