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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品,表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。
如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象,團聚體難以打開,而如果采用IKN研發(fā)的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。
IKN研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)改性納米氧化鋅高速剪切研磨分散機,氧化鋅還原高速分散設備,氧化物分散機廠家,納米氧化鋅研磨分散機,納米氧化鋅分散機,納米氧化鋅分散設備,氧化鋅分散機,超細分散機,納米分散機
CMD2000系列研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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