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超細頭孢混懸液高速研磨分散機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱太倉希德機械科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號GMD2000
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/8/9 13:51:17
  • 訪問次數(shù)368
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太倉希德機械科技有限公司坐落在享有“德企之鄉(xiāng)”之稱的太倉,公司成立伊始便與眾多德資企業(yè)有技術(shù)方面的交流合作,通過結(jié)合優(yōu)良技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā),組裝,檢測,及營銷體系。著力打磨混合領(lǐng)域*產(chǎn)品,為客戶提供*的流體設(shè)備和成套工藝技術(shù)解決方案,包括研磨、乳化、分散、均質(zhì)、攪拌、混合、干燥、冷卻、燒結(jié)、熔融等工藝,提供工業(yè)生產(chǎn)中真空乳化機成套設(shè)備、粉體自動化配料系統(tǒng)、交鑰匙工程大成套設(shè)備、多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過程監(jiān)測、DCS 控制技術(shù)等。

公司產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)、生物醫(yī)藥、日常護理品、納米材料、涂料油墨、石油化工、印染助劑、造紙工業(yè)、農(nóng)藥化肥、塑料橡膠、電力電子,精細化工、等行業(yè)。在新型高分子材料化工材料、精細化工,如石墨烯,瀝青,新型鋰電池,化妝品,制藥應(yīng)用尤為顯著及廣泛。

公司位于風(fēng)景優(yōu)美的千年古鎮(zhèn)沙溪鎮(zhèn),交通位置*,公司處于G15沈海高速沙溪出口,距離滬通高鐵太倉站10公里,距離上海虹橋樞紐(虹橋機場、高鐵站)1小時車程,距離太倉港15公里。

“行有矩,為有道,事可成”是希德人給世界的承諾,服務(wù)萬千用戶,不忘初心,勇往直前。

 

乳化機,均質(zhì)機,分散機,研磨機,膠體磨,離心干燥機,冷水機,高溫?zé)Y(jié)爐,真空乳化機成套設(shè)備,粉體自動化配料系統(tǒng),交鑰匙工程大成套設(shè)備,多功能成套生產(chǎn)工藝過程監(jiān)測系統(tǒng),DCS 控制技術(shù)
產(chǎn)地 進口 產(chǎn)品新舊 全新
超細頭孢混懸液高速研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
超細頭孢混懸液高速研磨分散機 產(chǎn)品信息

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞

超細頭孢混懸液高速研磨機,口服混懸液研磨分散機,頭孢混懸液高速研磨機,醫(yī)藥級混懸液研磨機,阿苯達唑混懸液高速研磨機,安達鋁鎂加混懸液高速研磨機,布地奈德混懸液高速研磨機,布洛芬混懸液高速研磨機,蒙脫石混懸液高速研磨機,多潘立酮混懸液高速研磨機,磺胺二甲嘧啶混懸液高速研磨機

二、研磨分散機的簡介

SGN研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

GMD2000超細頭孢混懸液高速研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。



三、混懸液藥劑的簡介

混懸液藥劑是指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非勻相的液體藥劑。對于混懸液藥劑的制備有嚴格的規(guī)定:藥物本身的化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,在使用或貯存期間含量應(yīng)符合要求;混懸劑中微粒大小根據(jù)用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度應(yīng)很慢、沉降后不應(yīng)有結(jié)塊現(xiàn)象,輕搖后應(yīng)迅速均勻分散;混懸劑應(yīng)有一定的粘度要求;外用混懸劑應(yīng)容易涂布等。


四、混懸劑穩(wěn)定性影響因素:

1.粒子沉降----通過stokes沉降方程可知,粒子半徑越大,介質(zhì)粘度越低,沉降速度越快,為保持穩(wěn)定,應(yīng)減小微粒半徑,或增加介質(zhì)粘度(助懸劑)。

2.荷電與水化膜-----雙電層與水化膜能保持粒子間斥力,有助于穩(wěn)定,如雙電層zeta電位降低,或水化膜破壞,則粒子發(fā)生聚沉,電解質(zhì)容易破壞zeta電位和水化膜。

3.絮凝與反絮凝----適當降低zeta電位,粒子發(fā)生松散聚集,有利于混懸劑穩(wěn)定,能形成絮凝的物質(zhì)為絮凝劑。

4.結(jié)晶-----放置過程中微粒結(jié)晶,結(jié)晶成長,形成聚沉。

5.分散相溫度-----溫度降低使布朗運動減弱,降低穩(wěn)定性,故應(yīng)保持合適的溫度。

若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。加入表面活性劑可以降低界面自由能,使系統(tǒng)更加穩(wěn)定,而且表面活性劑由可以作為潤濕劑,可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān),若加入適量的絮凝劑(電解質(zhì))使顆粒ζ電位降至一定程度,微粒就發(fā)生絮凝,混懸劑相對穩(wěn)定,絮凝沉淀物體積大,振搖后易再分散,加入反絮凝劑(電解質(zhì))可以增加已存在固體表面的電荷,使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。  

五、研磨分散機的工藝

超細頭孢混懸液高速研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。


      超細頭孢混懸液高速研磨分散機


六、GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

型號流量L/H轉(zhuǎn)速rpm線速度m/s功率kw入/出口連接DN
GMSD2000/430018000514DN25/DN15

GMSD2000/5  

1000140005111DN40/DN32
GMSD2000/10200092005122DN80/DN65
GMSD2000/20500028505137DN80/DN65
GMSD2000/30800014205155DN150/DN125

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到z大允許量的10%。



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