實(shí)驗(yàn)室高剪切研磨分散機(jī)

GM2000實(shí)驗(yàn)室高剪切研磨分散機(jī)

高校研究院實(shí)驗(yàn)室膠體磨，試驗(yàn)室膠體磨，小型膠體磨，德國(guó)實(shí)驗(yàn)室膠體磨，高轉(zhuǎn)速實(shí)驗(yàn)室膠體磨

此款實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)比普通的膠體磨的速度達(dá)到4-5倍以上，研磨效果非常好，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。

高校研究院實(shí)驗(yàn)室膠體磨的研磨效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):

1.膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

2.膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

3.物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

4.循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，便不能再好）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD（轉(zhuǎn)子直徑）X轉(zhuǎn)速RPM/60

實(shí)驗(yàn)室膠體磨 ,實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

                 
實(shí)驗(yàn)室膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

GM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 實(shí)驗(yàn)室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。實(shí)驗(yàn)室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

GM2000實(shí)驗(yàn)室高剪切研磨分散機(jī)設(shè)備選型表: