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離子研磨儀 IM4000II

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱柯岷國際貿(mào)易(上海)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/4/26 15:56:15
  • 訪問次數(shù)138
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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總部:益弘儀器公司于1976年成立,代理電子顯微鏡已有40多年,經(jīng)驗(yàn)豐富、服務(wù)口碑頗佳。公司員工逾100位,電子顯微鏡部門維修服務(wù)人員超過40員,其中中國臺灣20多位,中國大陸20多位,如附表一。中國大陸柯岷國際貿(mào)易(上海)有限公司成立于2002年四月。 HHT日立柯岷公司負(fù)責(zé)中國區(qū)域的VIP客戶(例如:中芯國際,臺積電,英特爾集團(tuán)、美光集團(tuán)、三星集團(tuán),Hynix集團(tuán),日立集團(tuán),長江存儲武漢新芯集團(tuán),晶合,睿力,格芯半導(dǎo)體(GLOBALFOUNDRIES);日月光集團(tuán),富士通集團(tuán),江蘇長電科技;LG集團(tuán),友達(dá)集團(tuán),群創(chuàng)集團(tuán),三星集團(tuán),信利集團(tuán);廣達(dá)集團(tuán),富士康集團(tuán),華碩集團(tuán),滬士電子,欣興集團(tuán),健鼎集團(tuán),南亞集團(tuán)……),應(yīng)廣大的臺資外資,半導(dǎo)體,光電企業(yè)與電子相關(guān)企業(yè)在中國大陸投產(chǎn)使用電子顯微鏡售后服務(wù)迫切需求,2002年Hitachi特別委由中國臺灣益弘儀器公司在中國名為柯岷公司負(fù)責(zé)該區(qū)域與售后服務(wù)。十九年多來與臺資、外資電子,光電相關(guān)企業(yè)使用Hitachi電子顯微鏡客戶與柯岷公司建立良好的互動關(guān)系,客戶對柯岷國際貿(mào)易(上海)有限公司負(fù)責(zé)Hitachi電子顯微鏡售后服務(wù)維修保養(yǎng)十分滿意。目前柯岷公司注冊于上海自由貿(mào)易區(qū),總部設(shè)在蘇州昆山地區(qū)?服務(wù)人員計(jì)有4位臺籍常駐干部,每位資歷都超過20年維修服務(wù)工作經(jīng)驗(yàn)。十幾位本國服務(wù)工程師維修服務(wù)團(tuán)隊(duì)陣容堅(jiān)強(qiáng),且均屬專業(yè)電子顯微鏡項(xiàng)目。
研磨機(jī)(研磨儀)
離子研磨儀 IM4000II
離子研磨儀 IM4000II 產(chǎn)品信息

高效率的截面研磨

IM4000II配備截面研磨能力達(dá)到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出截面樣品。

  • *1

  • 在加速電壓6 kV下,將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時(shí)的深度

    樣品:Si片(2 mm厚)
                                                                              加速電壓:6.0 kV
                                                                              擺動角度:±30°
                                                                              研磨時(shí)間:1小時(shí)

截面研磨時(shí)如果擺動的角度發(fā)生變化,加工的寬度和深度也會發(fā)生變化。下圖為Si片在擺動角度為±15°下進(jìn)行截面研磨后的結(jié)果。除擺動角度以外,其他條件與上述加工條件一致。通過與上面結(jié)果進(jìn)行對比后,可發(fā)現(xiàn)加工的深度變深。
對于觀察目標(biāo)位于深處的樣品來說,能夠?qū)悠愤M(jìn)行更快速的截面研磨。

樣品:Si片(2 mm厚)
                                                                    加速電壓:6.0 kV
                                                                    擺動角度:±15°
                                                                    研磨時(shí)間:1小時(shí)

復(fù)合型研磨儀

截面研磨

  • 即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構(gòu)成的復(fù)合材料,也可以通過IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面

  • 優(yōu)化加工條件,降低因離子束所致樣品的損傷

  • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

截面研磨的主要用途

  • 金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等樣品的截面制備

  • 含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備

  • 多層樣品的截面制備以及對樣品EBSD分析的前處理






平面研磨

  • 直徑約為5mm范圍內(nèi)的均勻加工

  • 應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

  • 可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品

  • 可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(±60度,±90度的擺動)2種加工方法

平面研磨的主要用途

  • 去除機(jī)械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變

  • 去除樣品表層部分

  • 消除因FIB加工所致的損傷層

  • *1 將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時(shí)的深度。

選配項(xiàng)

  • *2 需與主機(jī)同時(shí)訂購。冷卻溫度控制功能在使用時(shí),部分功能可能使用有限。


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