1. 各水系統(tǒng)解決方案路線
2.化工行業(yè)水處理設備典型工藝流程
方案一：
采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→除氧裝置→用水點
方案二：
采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透或雙級反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→除氧裝置→用水點
預處理系統(tǒng)：雙介質過濾器或超濾裝置，主要去除水中的顆粒、膠體、懸浮物、大分子有機物、濁度等，使出水滿足反滲透的進水條件(主要有濁度和SDI值兩個指標)。
除鹽系統(tǒng)包括一、二級反滲透和EDI。一級反滲透作為預脫鹽裝置，脫除水中大部分的溶解鹽類、顆粒、硬度、活性硅，二級反滲透和EDI作為精脫鹽裝置，進一步脫除水中微量的溶解鹽類、硬度、活性硅，使整個系統(tǒng)的出水水質達到超高壓亞臨界鍋爐的補水水質要求。
EDI產水電導率穩(wěn)定在0.06mS/cm以下，滿足鍋爐補給水的要求(<0.2mS/cm)
硅是鍋爐補給水的一項重要指標，膜法除鹽系統(tǒng)各單元對硅均有較高的脫除率。一級反滲透脫硅率達到99%左右;而二級反滲透進水的硅含量較低(84ppb)，其對硅的脫除率也相對較低，約86%，而EDI對硅的脫除率約為83%。系統(tǒng)產水硅含量在0.003mg/L(3ppb)左右。
方案三：
原水→原水池→原水泵→換熱器→管道混合器→多介質過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透→中間水箱→中間水泵→電去離子( EDI)→除鹽水箱
補給水系統(tǒng)由預處理系統(tǒng)、RO預除鹽系統(tǒng)、EDI精除鹽系統(tǒng)組成
預處理系統(tǒng)包括原水箱、生水泵、板式換熱器、多介質過濾器、活性炭過濾器等，用以除去原水中的懸浮物、膠體等。RO系統(tǒng)包括保安過濾器、高壓泵、反滲透膜和中間水箱，能脫除原水中97%的含鹽量，EDI系統(tǒng)包括中間水泵、電除鹽設備、除鹽水箱等。
產水電阻率一直穩(wěn)定在5～12.15MΩ?cm之間，操作非常簡單，操作人員只需在計算機前即可完成全部操作。
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