化學(xué)氣相沉積CVD管式爐

化學(xué)氣相沉積CVD管式爐產(chǎn)品用途

化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。

化學(xué)氣相沉積CVD管式爐產(chǎn)品特點(diǎn)

》CVD管式爐系統(tǒng)由加熱系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)和氣路系統(tǒng)組成。

》管式爐可選擇不同的管徑和恒溫區(qū)的長(zhǎng)度，爐管兩端的不銹鋼密封 法蘭也可選擇高真空法蘭和低真空法蘭；

》真空獲得系統(tǒng)可根據(jù)試驗(yàn)要求選擇不同真空泵，旋片式真空泵真空度≤5pa，分子泵真空系統(tǒng)真空度1*10-4pa

》氣路供氣系統(tǒng)可選擇3路浮子手動(dòng)和3路自動(dòng)質(zhì)量流量系統(tǒng)。

》真空測(cè)量選用數(shù)字復(fù)合真空計(jì)或皮拉尼真空計(jì)。

》可選配溫控器內(nèi)置的RS485數(shù)字通信端口和USB，可連接PC,用于系統(tǒng)的遠(yuǎn)程控制和監(jiān)視，還可以保存或?qū)С?/span> 測(cè)試結(jié)果。

化學(xué)氣相沉積CVD管式爐溫度控制系統(tǒng)特點(diǎn)與選擇

國(guó)產(chǎn)宇電控制系統(tǒng)

▲標(biāo)配采用廈門宇電微電腦 PID 溫控儀表，PID 參數(shù)自整定功能，手動(dòng)/自動(dòng)無(wú)干擾切換功能，超溫提示功能，自動(dòng)升溫、自動(dòng)保溫、自動(dòng)停止，可編程 30 個(gè)時(shí)段，可滿足連續(xù)恒溫和控溫要求，固又名程控式管式馬弗爐。SEMIKRON 德國(guó)西門子功率調(diào)節(jié)器，SCR 可控硅移相觸發(fā)調(diào)壓控制方式，加熱升溫波動(dòng)小，溫度穩(wěn)定性高。

日本島電溫度控制系統(tǒng)（對(duì)于要求高的用戶建議使用）

△日本島電微電腦PID控制系統(tǒng)，PID 參數(shù)自整定功能，手動(dòng)/自動(dòng)無(wú)干擾切換功能，超溫提示功能，自動(dòng)升溫、自動(dòng)保溫、自動(dòng)停止，可設(shè)定4組8段程序升溫，溫度穩(wěn)定性更好！

觸摸屏溫度控制系統(tǒng)（功能多，操作方便，多組程序設(shè)定）

△：采用7英寸大屏幕觸控智能PID溫控儀表，中英文切換，PID參數(shù)自整定功能，超溫聲音提示功能?？蓛?chǔ)存16條升溫工藝，每個(gè)工藝可編輯31個(gè)時(shí)段的溫度曲線；自動(dòng)升溫、自動(dòng)保溫、自動(dòng)停止，可滿足連續(xù)恒溫和控溫要求。溫控儀表自帶曲線記錄功能，實(shí)時(shí)記錄升溫曲線，也可查看歷史升溫?cái)?shù)據(jù)，隨時(shí)USB接口數(shù)據(jù)導(dǎo)出，可在計(jì)算機(jī)上查看和打印升溫?cái)?shù)據(jù)報(bào)告。

化學(xué)氣相沉積CVD管式爐產(chǎn)品特點(diǎn)及型號(hào)選擇

》爐膛采用真空成型氧化鋁陶瓷纖維材料，保溫節(jié)能

》高溫HRE鐵絡(luò)鋁合金電阻絲，升溫速度快，1-25°C/min可調(diào)

》沖溫小，具有溫度補(bǔ)償和溫度校正功能，恒溫波動(dòng)度為±1°C

》智能PID控溫儀表，具有程序功能，可設(shè)定升溫曲線，可編30個(gè)程序段

》一體式結(jié)構(gòu)，爐蓋可開啟，可實(shí)現(xiàn)樣品的便捷取放和快速降溫

》電子元器件均采用德力西產(chǎn)品，帶有漏電保護(hù)裝置

》本機(jī)對(duì)工作過(guò)程中的超溫會(huì)發(fā)出提示信號(hào)，并自動(dòng)完成

》304不銹鋼密封法蘭，擠壓密封，可實(shí)現(xiàn)真空和氣氛下的樣品熱處理，真空度M5pa （旋片式真空泵）

》選配RS485通訊接口和通訊軟件，可實(shí)現(xiàn)電爐遠(yuǎn)程控制和數(shù)據(jù)記錄