隨著電子產(chǎn)品的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，電子設(shè)備的需求量就會(huì)在不斷的增長(zhǎng)中，在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的過(guò)程中不但會(huì)產(chǎn)生大量的工業(yè)污水而且還會(huì)產(chǎn)生具有污染性的工業(yè)廢氣，面對(duì)工廠產(chǎn)生的這部分工業(yè)廢氣應(yīng)如何處理，本文了解關(guān)于半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)工業(yè)的廢氣處理設(shè)備。
半導(dǎo)體芯片加工廠的工業(yè)廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機(jī)廢氣，具有揮發(fā)性的VOCs以及酸堿廢氣主要來(lái)源于對(duì)芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過(guò)程中產(chǎn)生的，這部分的廢氣濃度小且排放量大。
半導(dǎo)體廢氣采用的是洗滌塔廢氣處理設(shè)備進(jìn)行處理的，洗滌塔分為立式和臥式，這兩者之間的區(qū)別就在于立式廢氣洗滌塔是氣液兩相逆流接觸，而臥式廢氣洗滌塔是氣液兩相交叉流接觸。
洗滌塔廢氣處理設(shè)備主要由循環(huán)水箱、循環(huán)水管路、除霧層、填料層以及塔體組成，設(shè)備的工作流程大致為：酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風(fēng)機(jī)→煙囪(達(dá)標(biāo)排放)。
除了采用洗滌塔設(shè)備還可以選擇采用沸石轉(zhuǎn)輪或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐。
溫馨提示：半導(dǎo)體工業(yè)廢氣需先經(jīng)過(guò)預(yù)處理過(guò)濾裝置進(jìn)行大顆粒粉塵及雜質(zhì)的去除才能進(jìn)入沸石轉(zhuǎn)輪吸附裝置或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐進(jìn)行后續(xù)的處理。
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