TargetSystem
用于可見目標(biāo)和隱藏目標(biāo)的自動目標(biāo)制備
TargetSystem 特性
- 顯著縮減制備時間
- 不受操作人員技能影響
- 的再現(xiàn)性
- 無需成本昂貴的磨料薄膜
TargetSystem 設(shè)計用于微電子組件和扁平化目標(biāo)制備。這是款失效分析工具,可對可見目標(biāo)和隱藏目標(biāo)進行實時對齊和測量,例如微型穿孔和 BGA。系統(tǒng)精度高達(dá) +/- 5 µm。
TargetSystem 特性
TargetSystem 設(shè)計用于微電子組件和扁平化目標(biāo)制備。這是款失效分析工具,可對可見目標(biāo)和隱藏目標(biāo)進行實時對齊和測量,例如微型穿孔和 BGA。系統(tǒng)精度高達(dá) +/- 5 µm。
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