賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀

賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀結合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質(zhì)量分析器，可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內(nèi)的幾乎所有元素，是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的zui佳工具。

了解如何借助 賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀為固體中高級高純度材料的直接分析定義新的標準。通過限度減少校準和樣品制備操作，可提高樣品處理量并達到超低檢測限，從而使 GD-MS 適合整塊金屬分析和深度剖析應用。
陶瓷和其他幾種非導電粉末使用二次電極法進行分析，從而提供相同水平的靈敏度和數(shù)據(jù)質(zhì)量。這使得 GD-MS 成為痕量金屬分析的可靠標準方法。
存在于固體樣品中的幾乎所有元素都可進行常規(guī)檢測和定量：許多元素的含量低于十億分率 (ppb) 水平。
µs 脈沖式高流速輝光放電池
采用脈沖放電模式的高靈敏度離子源
廣泛可調(diào)的濺射速率適用于快速進行整體分析和高級深度剖析應用
使用二級電極進行氧化鋁粉末分析
雙聚焦質(zhì)譜儀
高離子傳輸率和低背景使得信噪比可達亞 ppb 級檢測限
高質(zhì)量分辨率可提供zui高水平的選擇性和準確度：是*的分析結果的先決條件
十二數(shù)量級的自動檢測系統(tǒng)
在一次分析中測定基體和超痕量元素，全自動檢測器涵蓋 12 數(shù)量級動態(tài)線性范圍
直接定量測定基體元素 IBR（離子束比率）
高效率和簡單易用的軟件包
所有參數(shù)均由計算機控制
全自動調(diào)諧、分析和數(shù)據(jù)評估
自動 LIMS 連接性
遠程控制和診斷
Windows 7
樣品周轉(zhuǎn)時間通常少于 10 分鐘
能夠在一次分析中測定基體元素到超痕量元素
深度剖析涵蓋數(shù)百微米到一納米的層厚度
最小化基體效應，便于進行直接定量