官方微信|手機(jī)版|本站服務(wù)|買家中心|行業(yè)動態(tài)|幫助

產(chǎn)品|公司|采購|招標(biāo)

SPL針尖電子束光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/20 20:23:01
  • 訪問次數(shù)296
產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品 查看電話 同類產(chǎn)品

聯(lián)系我們時(shí)請說明是 制藥網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
SPL德國Nano analytik(ParcanNano)針尖電子束光刻機(jī),基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術(shù)、在半導(dǎo)體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結(jié)構(gòu)的高性能微納加工系統(tǒng)。
SPL針尖電子束光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

SPL德國Nano analytik(ParcanNano)針尖電子束光刻機(jī)

簡介:

公司以的針尖技術(shù)為核心競爭力,技術(shù)源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學(xué),致力于主動式針尖技術(shù)在微納米結(jié)構(gòu)制備和表征方面的研發(fā),及其相關(guān)設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化。

公司研制一套基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術(shù)、在半導(dǎo)體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結(jié)構(gòu)的高性能微納加工系統(tǒng)。可在大氣環(huán)境下,高經(jīng)濟(jì)效益、快速直寫5納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實(shí)現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像、定位、檢測和操縱。

技術(shù)特點(diǎn):


。場發(fā)射低能電子束
。大幅降低電子束背底散射
。幾乎消除電子束臨近效應(yīng)
。光刻5納米以下單線寬結(jié)構(gòu)
。光刻結(jié)構(gòu)間距小于2納米
。接近原子級分辨的套刻精度
。線寫速度高達(dá) 300 μm/s
。大氣環(huán)境下可實(shí)現(xiàn)正負(fù)光刻
。正光刻流程無需顯影步驟
。無需調(diào)制電子束聚光
。大范圍分步重復(fù)工藝
。Mix & Match 混合光刻模式
。針尖曝光與結(jié)構(gòu)成像實(shí)時(shí)進(jìn)行
。真空原位觀測光刻圖案

功能指標(biāo):

產(chǎn)品規(guī)格:

探針掃描頭配置:

樣品臺配置:

在找 SPL針尖電子束光刻機(jī) 產(chǎn)品的人還在看

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個人信息: