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等離子發(fā)光分析終點(diǎn)檢測(cè)儀

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公司名稱上海首立實(shí)業(yè)有限公司
品牌
型號(hào)EV-140C
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/1 8:47:00
訪問(wèn)次數(shù)590

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海首立實(shí)業(yè)有限公司成立于2002年，是美國(guó)SOLY在中國(guó)投資的集科、工、貿(mào)于一體的綜合性實(shí)業(yè)公司。目前在國(guó)內(nèi)的主要有實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備和生產(chǎn)工業(yè)用試劑兩大方面的業(yè)務(wù)。其一：實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備和實(shí)驗(yàn)室工程方面，本公司是NIPPON DENSHOKU,HENKEL,SHEEN,DJH DESIGNS，TIMES，JICC，TPS，BLUE M,TABER，ERICHSEN等的*經(jīng)銷商和售后服務(wù)承包商。主營(yíng)NIPPONDENSHOKU色差儀、色度儀、色差計(jì)、濁度儀、水分儀、分光測(cè)色儀、光澤計(jì)、密度計(jì)；儀立信Erichsen杯凸設(shè)備、島津EDX720 X熒光光譜儀、HORIBA XGT-1000WR,TPS,Blue-M高溫烘箱、TSA101（102，103）自動(dòng)彈出式烘箱、紫外老化箱、光澤計(jì)、DJH膜厚儀、DJH MEK摩擦實(shí)驗(yàn)儀以及其它鹽霧、磨耗、氙燈曝曬老化、紅魔鬼振蕩混合器、HENKEL鋁合金表面鈍化劑、皮膜劑，Taber磨耗儀等等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備耗材及實(shí)驗(yàn)室工程；我司為涂料實(shí)驗(yàn)室、RoHS實(shí)驗(yàn)室、彩鋼實(shí)驗(yàn)室及通用實(shí)驗(yàn)室提供一攬子解決方案。其二：生產(chǎn)加工，首立實(shí)業(yè)保稅區(qū)工廠主要生產(chǎn)出口工業(yè)電子油、金屬表面保護(hù)劑、微動(dòng)開(kāi)關(guān)觸點(diǎn)保護(hù)脂和防銹劑等工業(yè)試劑和耗材。注冊(cè)商標(biāo)牌號(hào)：Cu606銅表面防變色保護(hù)劑，GR601觸點(diǎn)保護(hù)脂，AU602金表面防變色保護(hù)劑，AG603銀表面防變色保護(hù)劑，SN604錫表面防變色保護(hù)劑，NI605鎳表面防變色保護(hù)劑，F(xiàn)E607防銹油，F(xiàn)608高效防銹脂，RoHSColor六價(jià)鉻顯色劑。董事長(zhǎng)語(yǔ)錄：“品質(zhì)未來(lái)?！? 經(jīng)營(yíng)理念：“以實(shí)力求生存、以改革求發(fā)展。” 公司使命：“掌握技術(shù)、研發(fā)產(chǎn)品；積累經(jīng)驗(yàn)、優(yōu)化服務(wù)?！? 員工守則：“專業(yè)、專注、誠(chéng)信、高效” 經(jīng)營(yíng)目標(biāo)：“提升自己、服務(wù)客戶、回報(bào)股東、回報(bào)社會(huì)?！? 公司自成立以來(lái)，憑借正確的經(jīng)營(yíng)理念，加之科學(xué)的管理方法，同美國(guó)、加拿大、德國(guó)、韓國(guó)、瑞典、瑞士、日本、中國(guó)香港及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)等眾多企業(yè)和社會(huì)團(tuán)體建立了穩(wěn)定*的業(yè)務(wù)合作關(guān)系并樹立了良好的信用度和企業(yè)美譽(yù)度。公司尊重知識(shí)、尊重人才，注重技術(shù)、追求創(chuàng)新。我們熱忱希望同海內(nèi)外各屆人士及同行精誠(chéng)合作、面向未來(lái)、共創(chuàng)多贏。首立實(shí)業(yè)歡迎您蒞臨洽談！首立實(shí)業(yè)誠(chéng)邀您加盟！

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

這是一套分析放射性發(fā)光的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)設(shè)備，為以等離子技術(shù)為基礎(chǔ)的半導(dǎo)體薄膜制程進(jìn)行終點(diǎn)檢定或等離子條件的監(jiān)控而研制。數(shù)學(xué)模型技術(shù)賦予它通過(guò)捕獲微弱信號(hào)的變化進(jìn)行終點(diǎn)檢定的能力。在放射性發(fā)光中捕獲微弱變化的能力顯著地提高了靈敏度。對(duì)于抗干擾性的改善確保了本設(shè)備在復(fù)雜環(huán)境下持續(xù)不停的生產(chǎn)線上獲得高穩(wěn)定的運(yùn)行。

等離子發(fā)光分析終點(diǎn)檢測(cè)儀產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

特征

布賴特光柵

布賴特光學(xué)系統(tǒng)是通過(guò)HORIBA Jobin Yvon制造的一個(gè)巨大的，直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實(shí)現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡(jiǎn)易光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu)，并且可以小化因?yàn)殓R面及其他反射面造成的反射損失。

背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個(gè)光學(xué)通道。

背光式CCD可以達(dá)到高量子效率，確保從紫外光到可見(jiàn)光之間的寬波段范圍內(nèi)獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測(cè)量在紫外光波段，特別是在那些較少受到干擾影響的波長(zhǎng)范圍，使終點(diǎn)監(jiān)測(cè)成為可能。

專為*制程控制而準(zhǔn)備的Sigma-P軟件

應(yīng)制程控制的要求，此軟件可以執(zhí)行多種工序，從等離子體現(xiàn)象分析到測(cè)量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(kù)創(chuàng)建和生產(chǎn)設(shè)備的遠(yuǎn)程遙控。測(cè)量工序的可編程架構(gòu)設(shè)計(jì)使其可以對(duì)多重監(jiān)測(cè)和時(shí)序處理進(jìn)行設(shè)定。它賦予檢測(cè)器不僅可以被用于終點(diǎn)監(jiān)測(cè)，同時(shí)也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測(cè)。

這是一種對(duì)于等離子體異常情況進(jìn)行報(bào)警的*設(shè)計(jì)，也可以通過(guò)利用2種波長(zhǎng)之間的變換系數(shù)來(lái)指導(dǎo)終點(diǎn)測(cè)量。
全回收功能

一旦收集到光譜學(xué)的數(shù)據(jù)后，對(duì)制程優(yōu)化或者終點(diǎn)監(jiān)測(cè)的模擬可以通過(guò)應(yīng)用新的制程設(shè)計(jì)反復(fù)進(jìn)行。

一個(gè)用于識(shí)別等離子中發(fā)光類別的數(shù)據(jù)庫(kù)已經(jīng)包含在內(nèi)
光譜學(xué)數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成一個(gè)時(shí)距記錄曲線圖，或者可以通過(guò)屏幕格式，把操作波形，比對(duì)參考數(shù)據(jù)獲得的相對(duì)計(jì)算波形和其他信息顯示出來(lái)。
為時(shí)間記錄圖分析而準(zhǔn)備的自動(dòng)圖形軟件

從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖形差異是一個(gè)艱巨的挑戰(zhàn)。自動(dòng)圖形軟件將自動(dòng)地找到圖形變化的特征并測(cè)定為合適的終點(diǎn)波長(zhǎng)。

強(qiáng)大的終點(diǎn)數(shù)學(xué)模型。
通過(guò)使用客戶波長(zhǎng)范圍的計(jì)算波形和過(guò)濾系統(tǒng)，終點(diǎn)可以被準(zhǔn)確的發(fā)現(xiàn)。在接近2個(gè)區(qū)域的2條直線的交叉點(diǎn)，發(fā)展的數(shù)學(xué)模型賦予機(jī)臺(tái)穩(wěn)定的監(jiān)測(cè)細(xì)微變化的性能。此功能確保各點(diǎn)的變化準(zhǔn)確地從干擾中被區(qū)分出來(lái)，正如終點(diǎn)在微小開(kāi)放區(qū)域內(nèi)的細(xì)號(hào)變化，都能被準(zhǔn)確的監(jiān)測(cè)。
超出微小開(kāi)放區(qū)域（<0.2%）的蝕刻監(jiān)測(cè)。

當(dāng)頻率率波器將干擾信號(hào)從原始信號(hào)中過(guò)濾掉后，不同信號(hào)（粉色線）在圖形中的比率（黑色線）變化（上升（A+B+C）/減?。―+E+F））可以使我們準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)到終點(diǎn)的位置。

制程設(shè)計(jì)，一種伴隨分析結(jié)果同步自動(dòng)完成的制程生成軟件（選擇項(xiàng)軟件）
制程設(shè)計(jì)是自動(dòng)圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過(guò)在顯示器上實(shí)時(shí)的分析和模擬，生成數(shù)學(xué)模型。這種數(shù)學(xué)模型可以很容易地被構(gòu)建到真實(shí)的制程里。對(duì)于那些微弱和復(fù)雜的發(fā)光類別型的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)，或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現(xiàn)的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)，或者類似情況，這種設(shè)計(jì)可以使制程研制的負(fù)擔(dān)大大減輕。
*步：自動(dòng)分離出波長(zhǎng)變化的圖形；
第二步：使用接近的2條直線，鑒定出變化點(diǎn)；
第三步：通過(guò)完整的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行的EDP模擬管理可以被輸出和構(gòu)建到Sigma-P中；*的統(tǒng)計(jì)處理：反饋給制程。
統(tǒng)計(jì)處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數(shù)據(jù)，幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結(jié)果可以被反饋到測(cè)量當(dāng)中。

關(guān)鍵詞：傳感器