plasma處理系統(tǒng)SAT-5D
技術(shù)特點(diǎn)：
1.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，耐用、防腐容易清潔。
2.儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng)，自動(dòng)兩種模式任意切換的工作方式，方便用戶實(shí)驗(yàn)
3.儀器實(shí)現(xiàn)了程序化設(shè)計(jì)，預(yù)先編輯好程序，儀器可以自動(dòng)完成實(shí)驗(yàn)
4.無需任何耗材使用成本低，無需特殊進(jìn)行維護(hù),日常使用保持儀器清潔即可
5.電容式等離子激發(fā)，處理效果均勻，激發(fā)電極板內(nèi)置樣品倉(cāng)內(nèi)頂部懸掛
6.密閉真空環(huán)境下完成實(shí)驗(yàn)避免二次污染
7.13.56Mhz射頻電源,掃頻自動(dòng)匹配，穩(wěn)定可靠，具有自動(dòng)保護(hù)功能。
8.靈活的參數(shù)設(shè)置和修改功能，可適應(yīng)多種處理工藝。
9.采用皮拉尼真空技術(shù)，實(shí)時(shí)檢測(cè)和顯示樣品倉(cāng)的真實(shí)真空度，具有1Pa的真空分辨率，能夠方便的接入MFC氣體流量控制儀，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體流量和真空度的控制和監(jiān)測(cè)。
10. 液晶屏+薄膜數(shù)字按鍵控制方式，操作直觀簡(jiǎn)單穩(wěn)定可靠。
plasma處理系統(tǒng)SAT-5D
技術(shù)規(guī)格參數(shù)
| 型號(hào)：SAT-5D |
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| 不銹鋼/石英艙體 | Φ150 mm×L255mm 可以選配石英轉(zhuǎn)鼓用來處理微顆粒以及粉末 |
| 工作氣路 | 兩路，可以選配MFC控制 |
| 射頻頻率 | 13.56MHz |
| 射頻功率 | 0-150W，可調(diào)，掃頻自動(dòng)匹配 |
| 控制系統(tǒng) | 液晶屏+薄膜數(shù)字按鍵，實(shí)時(shí)顯示和檢測(cè)艙內(nèi)真空度值 |
| 時(shí)間范圍 | 0—99分59秒連續(xù)可調(diào) |
| 工作壓力 | 樣品倉(cāng)內(nèi)200Pa以內(nèi)根據(jù)進(jìn)氣量自動(dòng)調(diào)節(jié) |
| 工作氣體 | 空氣、氧氣、氮?dú)浠旌蠚?、氬氣、氮?dú)饧捌渌栊詺怏w與混合氣體均可 |
| 進(jìn)氣壓力 | 空氣：常壓 連接氣體鋼瓶：0.1-0.3Mpa |
| 工作模式 | 手動(dòng)模式和程序化自動(dòng)模式 |
| 真空泵 | 抽速：1升到5升每秒 |
| 輸入電源 | ~220V／50Hz |
| 整機(jī)尺寸（D*W*H） | 552X590X295mm |
| 重量（約） | 28Kg |
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