改性SEBS石墨烯潤(rùn)滑油分散機(jī),改性SEBS分散機(jī),SEBS石墨烯分散機(jī),石墨烯潤(rùn)滑油分散機(jī),改性SEBS潤(rùn)滑油分散機(jī),剪切型石墨烯分散機(jī)。改性SEBS石墨烯潤(rùn)滑油制備技術(shù)屬于潤(rùn)滑油技術(shù)領(lǐng)域,shou先將氧化石墨烯片層活化,再經(jīng)過酯化反應(yīng),得到炔基化的氧化石墨烯,然后某種三段共聚物通過點(diǎn)擊反應(yīng)生成SEBS和氧化石墨烯的功能化改性化合物SEBS?c?GOS;將所得的SEBS?c?GOS按不同的質(zhì)量比加入到基礎(chǔ)油中,進(jìn)行高速研磨分散,同時(shí)加入分散劑,乳化劑,研磨分散時(shí)間根據(jù)物料產(chǎn)量,固含量,粘稠度(流動(dòng)性),設(shè)備流量選擇等確定,經(jīng)過高速研磨分散設(shè)備的充分?jǐn)嚢璺稚?,得到?rùn)滑油成品;能明顯的降低發(fā)動(dòng)機(jī)的噪音,降低發(fā)動(dòng)機(jī)因?yàn)槟Σ炼a(chǎn)生的機(jī)械能損耗,提升發(fā)動(dòng)機(jī)動(dòng)力輸出。
細(xì)微到需要拿高倍顯微鏡才能看到的石墨烯,應(yīng)用到潤(rùn)滑油當(dāng)中,不可避免的會(huì)遇到團(tuán)結(jié)和沉淀問題。改性SEBS石墨烯潤(rùn)滑油分散機(jī)可以很好的解決顆?;蚍垠w漿料易團(tuán)聚、分散細(xì)化不均勻等問題。
ikn研磨分散機(jī)先將物料(配入溶劑和分散劑)研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。
.CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高ke技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
適用工藝:CMSD研磨分散機(jī)適用于高經(jīng)細(xì)度的分散、均質(zhì)、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。詳詢上海依肯林萬翠
CMSD 2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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