ATH阻燃劑漿料分散機，氫氧化鋁阻燃劑漿料高速分散機，納米阻燃劑漿料研磨分散機，氫氧化鋁阻燃劑分散機，氫氧化鋁漿料分散機，阻燃劑分散機，氫氧化鋁研磨分散機，ATH阻燃劑分散機，上海IKN分散設(shè)備，膠體磨+分散機的*設(shè)計，處理物料粒徑更小，分散更均勻。
詳情請接洽上海依肯,段，手機，(同) ，公司有樣機供客戶實驗
氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多*的優(yōu)點，且來源豐富，價格低廉，應(yīng)用范圍廣，品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對聚合物起增強作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點，因此研究其粒度超細(xì)化、表面改性處理技術(shù)、協(xié)同復(fù)合技術(shù)、納米技術(shù)正成為世界各國研究者的熱點問題。
氫氧化鋁的超微細(xì)化增加了氫氧化鋁的表面積，使粒子表面蒸氣壓降低，明顯增強阻燃效果，同時提高材料制品的力學(xué)性能和耐熱性能。
然而，要獲得超細(xì)的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備，傳統(tǒng)的分散設(shè)備，一方面無法將氫氧化鋁漿料進一步細(xì)化，另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家，可知，采用IKNCMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鋁漿料進行進一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻。
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IKN研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備，先研磨后分散機，因為氫氧化鋁分散到水中或者溶劑當(dāng)中，會形成二級團聚體，軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。IKN研磨分散機二級工作組，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切力強，分散更*。段。
CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMSD2000系列研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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