超細粉體膠體磨，超細粉體高速膠體磨，超細粉體高剪切膠體磨，超細粉體進口膠體磨
超細粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。詳情請接洽上海依肯,段，手機，(同) ，公司有樣機供客戶實驗
但是由于超細粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結(jié)果導(dǎo)致超細粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于超細粉體的這種強烈團聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，超細粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達到人們預(yù)期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。
膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用zuijia 幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
超細粉體膠體磨，超細粉體高速膠體磨，超細粉體高剪切膠體磨，超細粉體進口膠體磨高剪切膠體磨運行原理：
高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：
三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
CM2000系列的特點：
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
CM2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
CM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比
三級結(jié)構(gòu) | 磨頭結(jié)構(gòu) | 轉(zhuǎn)速 | zui大線速度 | 模塊頭 | 密封類型 | 產(chǎn)品效果 | |
國內(nèi)設(shè)備 | 溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣
| 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下 | 目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。） | 大約在10-15M/S
| 只有一種模塊頭 | 單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
| 粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
|
IKN 上海依肯 | 溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺 | 斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大 | 可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小) | 23-40 M/S | 可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊
| 雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)
| 可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 |
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超細粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。
但是由于超細粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結(jié)果導(dǎo)致超細粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于超細粉體的這種強烈團聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，超細粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達到人們預(yù)期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。
膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用zuijia 幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
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高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：
三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
CM2000系列的特點：
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
CM2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
CM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比
三級結(jié)構(gòu) | 磨頭結(jié)構(gòu) | 轉(zhuǎn)速 | zui大線速度 | 模塊頭 | 密封類型 | 產(chǎn)品效果 | |
國內(nèi)設(shè)備 | 溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣
| 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下 | 目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。） | 大約在10-15M/S
| 只有一種模塊頭 | 單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
| 粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
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IKN 上海依肯 | 溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺 | 斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大 | 可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小) | 23-40 M/S | 可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊
| 雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)
| 可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 |
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