行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

伯東企業(yè)(上海)有限公司


  • KRI 考夫曼離子束中和器 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 一般使用寬束的工業(yè)用KRI離子源,都會使用中和器來達(dá)到使用激發(fā)電子中和離子的目的。常用來做中和器的像是熱燈絲,電漿橋,或是中空陰極。

    產(chǎn)品型號:所在地:上海市更新時間:2021-12-28 在線留言

  • KRI 考夫曼離子源 KDC 160伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,離子能量強(qiáng)的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應(yīng)用, 離子源 KDC ...

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  • KRI 考夫曼離子源 KDC 100 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國 進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規(guī)格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設(shè)備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰...

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  • 霍爾離子源 eH 200 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國 進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi),...

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  • KRI 考夫曼離子源自動控制器 伯東代理

    詳細(xì)摘要: KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

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  • 考夫曼離子源中空陰極 Hollow Cathodes

    詳細(xì)摘要: 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結(jié)構(gòu)緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統(tǒng)的側(cè)面, 相...

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  • 考夫曼離子源 e-Mission Filament 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應(yīng)用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, ...

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  • 射頻離子源 RFICP 140 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國 進(jìn)口 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕.

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  • 線性霍爾離子源 eH Linear 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國 進(jìn)口 KRI線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達(dá) 1 米, 通過嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)佳的均...

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  • 霍爾離子源 eH 3000 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 3000適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上 高效, 提供 高離子束流的離...

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  • KRI 霍爾離子源 eH 2000 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強(qiáng)大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設(shè)計提供高離子電流,...

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  • KRI 考夫曼離子源 KDC 40 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮?dú)? 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

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  • KRI 考夫曼離子源 KDC 10 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源

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  • KRi 射頻離子源 RFICP 40 伯東代理

    詳細(xì)摘要: 離子源 RFICP 40 無需電離燈絲設(shè)計, 適用于通氣氣體是活性氣體時的工業(yè)應(yīng)用. 標(biāo)準(zhǔn)配置下 RFICP 40 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離...

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  • KRI 考夫曼離子源 KDC 75伯東代理

    詳細(xì)摘要: KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.

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  • KRi 射頻離子源 RFICP 100伯東代理

    詳細(xì)摘要: 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻. 標(biāo)準(zhǔn)配置下 RFICP 100 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以達(dá)到 400 m...

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  • KRI 霍爾離子源 eH 1000伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和...

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  • KRI 霍爾離子源 eH 400伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制...

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  • KRi 射頻離子源 RFICP 380伯東代理

    詳細(xì)摘要: 上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離...

    產(chǎn)品型號:所在地:上海市更新時間:2021-12-28 在線留言

  • KRi 射頻離子源 RFICP 220伯東代理

    詳細(xì)摘要: 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

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