注射混懸液膠體磨

注射混懸液膠體磨,注射液體磨,混懸液膠體磨,磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上，研磨效果非常好，zui高轉速可以達到14000RPM。

注射混懸液 液體藥劑中的藥物可以是固體、液體或氣體，在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態(tài)分散于液體分散媒（溶劑，下同）中組成分散體系。如分散相以分子或離子狀態(tài)分散于液體分散媒中者稱為溶液（真溶液），其中溶質分子量小的稱為低分子溶液；溶質分子量大的（如蛋白質類）則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外，還包括溶膠，它由多分子聚集體作為分散相的質點，分散在液體分散媒中。如果以固體顆?；蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街?，顆?；蛞旱闻c分散媒之間有相界面，前者稱為混懸液，后者稱為乳濁液。

影響分散乳化結果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

• 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
                g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： 

• 轉子的線速率
• 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
  IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

2.2.1 漿料穩(wěn)定性理論

大部分的漿料都是屬于懸浮液體系。不穩(wěn)定的懸浮液在靜止狀態(tài)下發(fā)生絮凝，并由于重力作用而很快分層，分散的目的就是要在產品的有效期內抗絮凝、防止分層，維持懸浮顆粒的均勻分布，提高產品的穩(wěn)定性。

2.2.1.1 懸浮液的絮凝理論

絮凝作用即是在靜態(tài)（由于布朗運動）或動態(tài)（在剪切力作用下條件下，通過顆粒碰撞引起顆粒數(shù)目減少的過程。膠體系統(tǒng)中，如不考慮穩(wěn)定劑，顆粒間的相互作用主要有范德華（Vander Waals）引力；伴隨著帶電顆粒的庫侖（Coulombic）力（斥力或引力）。這些力的起因截然不同，Derjaguin 和 Landau 在蘇聯(lián)，Verwey 和 Overbeek 在荷蘭分別獨立的提出 DLVO 理論，構成了親液分散體系中絮凝作用經典理論的基礎，闡述了膠體懸浮體系的穩(wěn)定性主要與膠體顆粒間上述兩個獨立的相互作用的相對距離有關。

2.2.1.2 懸浮液的分層理論

分層是分散相在外力（重力或離心力）作用下，在連續(xù)相中上浮或下沉的結果。在忽略布朗運動效應的靜態(tài)條件下，可用Stokes 定律來描述，即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定：

式中

ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差，g 為重力加速度，d 為分散相顆粒直徑，μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大，顆粒下沉，速度 V 為正值，反之，顆粒上浮，速度為負值。沉降速度大，漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定，就必須降低沉降速度，對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時，顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。

通過以上的分析我們可以看出，要提高懸浮液的穩(wěn)定性，分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出，根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn)，隨著顆粒粒度的減小，雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩?，但是由于顆粒之間的間距減小，顆粒之間的結合力（范德華力等）起到了重要決定性作用。另外，當顆粒直徑小于某一細小尺寸時，此時，顆粒的布朗運動效應就不能忽略了，所以由于細小顆粒的布朗運動，而使得顆粒之間產生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑，這些情況都會導致顆粒團聚，對體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中，顆粒粒徑并非越細越好，要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點，減小分散相顆粒的粒度，使其分布于一個較窄的尺寸范圍，并達到吸力與斥力的相互平衡，從而保證漿料體系的穩(wěn)定。

2.2.2 團聚與分散的關系

漿料的團聚是指原生的微細顆粒在制備、分散及存放過程中，相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現(xiàn)象。

顆粒在液相介質中表現(xiàn)為分散和團聚兩種基本的行為。顆粒在液體介質中的團聚是吸附與排斥共同作用的結果，其根源是顆粒間的相互作用力。在懸濁液體系中，粉體顆粒的團聚是吸附和排斥共同作用的結果。如果吸附作用大于排斥作用，粉體顆粒團聚；如果吸附作用小于排斥作用，粉體顆粒則分散。在液體介質中，粉體顆粒受力情況較復雜，不僅有像范德華力、靜電力、表面張力、毛細管力等產生團聚的吸引力，而且在粒子的表面，還會產生雙電層靜電作用、溶劑化膜作用、聚合物吸附層的空間保護作用等使納米顆粒趨向于分散的斥力作用。

顆粒在介質中的穩(wěn)定分散一般包括以下過程：潤濕、機械分散及分散穩(wěn)定。潤濕通常指顆粒與顆粒之間的界面被顆粒與溶劑、分散劑等界面所取代的過程。機械分散是利用剪切力將大量顆粒細化、使團聚體解聚、被潤濕、包裹吸附的過程。分散穩(wěn)定是指將原生粒子或較小的團聚體在靜電斥力、空間位阻斥力作用下來屏蔽范德華引力,使顆粒不再聚集的過程。團聚體分散解聚的直接原因是受到剪切力和壓力的作用，剪切力在分散過程中起到了決定性的作用。

注射混懸液膠體磨,

CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。 

本設備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。

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