混懸液研磨分散機

混懸液研磨分散機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。 

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

混懸液如

磺胺嘧啶混懸液      復方磺胺甲噁唑口服混懸液   磺胺二甲嘧啶混懸  液硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

 棕櫚氯霉素混懸液   布洛芬口服混懸液   復方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液   硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

布洛芬混懸液   硫糖鋁混懸液   

棕櫚氯霉素混懸液   鋁鎂混懸液

頭孢克洛混懸液    蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液   右美沙芬緩釋混懸液

苯酰甲硝唑混懸液   依托紅霉素混懸液

硫酸鋇混懸液   布洛偽麻混懸液    對乙酰氨基酚混懸液

混懸液的要求混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大

，微粒與分散介質之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。

若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。

影響混懸液大小的粉碎效果 

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： 

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在CM2000系列的基礎上又開發(fā)出CMSD2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。

混懸液研磨分散機的型號

研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

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