詳細介紹
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備(1150 三溫區(qū) 3路MFC)
本設備為基于CVD原理設計的晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置。包括三溫區(qū)管式爐,特殊設計的爐管及配套氣路一組。該設備通過特殊設計的管路,能夠將反應氣體均勻的釋放于爐管,確保后端晶圓上的產(chǎn)物的一致性和均勻性。是二硫化鉬制備實驗的。
特點
1.特殊管路設計,反應氣體均勻的釋放
2.二硫化鉬制備
技術參數(shù)
產(chǎn)品型號 | CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2 |
爐管材質 | 高純石英 |
爐管規(guī)格 | 外部大石英管 φ120mm x1000mm 內(nèi)部小石英管 φ25mm x820mm x7根 |
溫區(qū)長度 | 三溫區(qū)200mm+200mm+200mm |
控溫精度 | ±1℃ |
溫度曲線 | 三溫區(qū)獨立控溫,每個溫區(qū)均可設置30段時間溫度曲線 |
工作溫度 | 0~1150℃ |
升溫速率 | ≤10℃/min |
進氣系統(tǒng) | 三路質量流量計Ar氣0~500sccm N2氣0~200sccm H2氣0~200sccm 配有七路分氣、混氣氣路及混氣灌。 |
爐管法蘭 | 不銹鋼水冷法蘭,配有KF16真空接口,機械式真空計及不銹鋼針閥 |
供電要求 | AC 220V 50Hz 4kW |
控制方式 | 7英寸觸控屏 |
真空泵 | 雙極旋片真空泵 |
真空度 | 理論極限真空度10^-1Pa |