細胞分離納米材料研磨分散機，生物科研納米材料超微粉碎，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉(zhuǎn)速研磨分散機

納米技術(shù)：

納米技術(shù)是指在0.1~100納米的尺度里，研究電子、原子和分子運動規(guī)律的特性以及對物質(zhì)和材料進行處理的技術(shù)。納米材料與生物體在尺寸上有著密切的關(guān)系。

納米生物科研材料就是納米材料與生物科研材料的交叉，將納米微粒與其他材料相復(fù)合制成各種各樣的復(fù)合材料。隨著研究的進一步深入和技術(shù)的發(fā)展，納米材料開始與許多學(xué)科相互滲透，顯示出巨大的潛在應(yīng)用價值，特別是核酸與蛋白質(zhì)的生化、生物物理、生物力學(xué)、熱力學(xué)與電磁學(xué)特征及其智能復(fù)合材料已成為生命科學(xué)與材料科學(xué)的交叉前沿。

病毒尺寸一般約80～100nm，細菌為數(shù)百納米，而細胞則更大，因此利用納米復(fù)合粒子性能穩(wěn)定、不與膠體溶液反應(yīng)且易實現(xiàn)與細胞分離等特點，可將納米粒子應(yīng)用于診療中進行細胞分離。該方法同傳統(tǒng)方法相比，具有操作簡便、費用低、快速、安全等特點。美國科學(xué)家用納米粒子已成功地將孕婦血樣中微量的胎兒細胞分離出來，從而簡便、準(zhǔn)確地判斷出胎兒細胞中是否帶有遺傳缺陷。

藥物治療上使用的材料：藥物控釋納米材料將繼續(xù)成為納米科研材料研究發(fā)展的重點。納米粒子不但具有能穿過組織間隙并被細胞吸收等特性，而且還具有靶向、緩釋、高效、低毒且可實現(xiàn)口服、靜脈注射及敷貼等多種給藥途徑等優(yōu)點，因而在藥物輸送方面具有廣闊的應(yīng)用前景。

細胞分離納米材料研磨分散機，生物科研納米材料超微粉碎，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉(zhuǎn)速研磨分散機

上海依肯研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國x先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉(zhuǎn)速研磨分散機

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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