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納米粉體研磨分散機(jī) 德國(guó)制造

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  • 型號(hào) CMSD2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時(shí)間:2017-12-18 14:13:51瀏覽次數(shù):1180

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納米粉體研磨分散機(jī) 德國(guó)制造,納米粉體分散設(shè)備,納米粉體分散機(jī),納米粉體分散機(jī),納米粉體高速剪切分散機(jī),納米研磨分散機(jī),納米分散機(jī)

納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門(mén)普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*,而且是十分重要的技術(shù)手段。

詳細(xì)介紹

納米粉體研磨分散機(jī)  德國(guó)制造,納米粉體分散設(shè)備,納米粉體分散機(jī),納米粉體分散機(jī),納米粉體高速剪切分散機(jī),納米研磨分散機(jī),納米分散機(jī) 

納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門(mén)普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*,而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于納米粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面,在復(fù)合材料的制備過(guò)程中,由于納米粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。

               

所以為了解決這一問(wèn)題,各種類(lèi)型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散;其二是在粉體制備過(guò)程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對(duì)粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

目前對(duì)于納米粉體的分散,一般采用以下幾種設(shè)備:

一、超聲分散機(jī),超聲方式分散,對(duì)于小批量的物料還行,但無(wú)法放大生產(chǎn)。
二、機(jī)械攪拌分散機(jī),這種在工業(yè)化分散中比較常見(jiàn),但是由于自身的結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)速低,分散有死角,導(dǎo)致zui終分散效果差,并且分散的效率很低。
三、混合分散機(jī),這種分散機(jī)適合高粘度的物料的分散,電機(jī)功率大,但是也存在和機(jī)械攪拌分散機(jī)一樣的問(wèn)題,分散效率低,效果差。

隨著納米粉體分散的進(jìn)一步發(fā)展,上海IKN研發(fā)出的分散設(shè)備-研磨分散機(jī)。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子,先研磨打開(kāi)團(tuán)聚體,在瞬時(shí)通過(guò)分散工作組進(jìn)行分散,分散效率快,分散效果好。

 

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IKN研磨分散機(jī)在納米粉體的分散中有著突出的應(yīng)用和優(yōu)勢(shì),如納米氫氧化鎂、納米氫氧化鋁、石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹(shù)脂、納米涂料、醫(yī)藥納米混懸液等都有著成功的經(jīng)驗(yàn)和案例。更多信息請(qǐng)包。

IKN研磨分散機(jī)的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散,解決粉體分散到液體中,二次團(tuán)聚的問(wèn)題。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇) 

   

CMD2000系列納米粉體研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

 
CMD2000系列納米粉體研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

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