北京中顯恒業(yè)儀器儀表有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 顯微鏡、生物顯微鏡、倒置顯微鏡、金相顯微鏡、體式顯微鏡、

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聯(lián)人:
王亮
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北京市海淀區(qū)西三旗上奧世紀(jì)1-3-906
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450000
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http://m.thanksk.cn/st13561/
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Leica DM 4 P& MSP9000C專(zhuān)業(yè)煤巖反射率分析儀
Leica DM 4 P& MSP9000C專(zhuān)業(yè)煤巖反射率分析儀
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【簡(jiǎn)單介紹】
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【詳細(xì)說(shuō)明】

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德國(guó)徠的煤巖分析儀器,技術(shù)服務(wù)熱線:
劉經(jīng)理 霍經(jīng)理
1.整個(gè)系統(tǒng)的技術(shù)條件及功能
煤巖光片制備
煤巖光片的顯微觀察與照相
焦炭光片的顯微觀察與照相
煤巖光片的自動(dòng)掃描照相功能,照相過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)移動(dòng)樣品和自動(dòng)調(diào)焦,同時(shí)可人工干預(yù)微調(diào)焦距,確保圖像清晰率。速度10-20min/樣,可同時(shí)提供鏡質(zhì)組反射率和煤巖組成活惰比兩項(xiàng)結(jié)果。
按照現(xiàn)行GB/T 8899-1998《煤的顯微組分組和礦物測(cè)定方法》標(biāo)準(zhǔn)方法進(jìn)行的煤巖顯微組分的定量統(tǒng)計(jì)測(cè)試。
基于圖像分析的煤巖顯微組分定量統(tǒng)計(jì)方法,具有測(cè)試過(guò)程追溯功能,便于審核。
鏡質(zhì)體反射率的光度計(jì)測(cè)試方法,符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》的要求。人工確認(rèn)測(cè)試對(duì)象并自動(dòng)測(cè)試鏡質(zhì)組反射率,測(cè)試結(jié)果可用于仲裁。
基于圖像分析自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組并測(cè)試反射率,無(wú)需人工干預(yù),自動(dòng)形成反射率測(cè)試報(bào)告。具有測(cè)試過(guò)程追溯功能。
2.顯微鏡:
(1)符合MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
(2)光學(xué)系統(tǒng):偏光專(zhuān)業(yè)反射光路,具有明場(chǎng)(自然光),偏光功能。由明場(chǎng)反光鏡、起偏器和180度旋轉(zhuǎn)檢偏器實(shí)現(xiàn)。配有光濾片??蓪?shí)現(xiàn)鏡質(zhì)體隨機(jī)反射率、反射率測(cè)量和焦炭的觀測(cè)。
*(3)物鏡:配備10X干物鏡及50X油浸物鏡(物鏡上標(biāo)有POL XLR,XLR:專(zhuān)門(mén)致力于煤反射率分析,其他品牌均無(wú)針對(duì)性物鏡,要求高精度新標(biāo)準(zhǔn)HCS物鏡,使用高折射率低色散材料。光線透過(guò)率高,能夠降低透鏡界面漫反射,同時(shí)具有防霉功能
*(4)目鏡:配三目鏡筒,一筒用于檢測(cè)。雙目用于觀察,目鏡10x/22,帶視度補(bǔ)償功能,配置預(yù)裝10/100測(cè)微尺。雙目鏡頭可調(diào)眼距,能保證目鏡齊焦。
(5)光源:采用特制照明系統(tǒng)并使用長(zhǎng)壽命高亮度鹵素?zé)?2V/100W及反光碗的柯勒照明方式,帶調(diào)光裝置和顯示。色還原好,提高分辨率,光效高而均勻,有效使用壽命在2000小時(shí)。
(6)濾色片及測(cè)量附件
安裝濾色片系統(tǒng),配置日光矯正、隔熱濾片、目鏡測(cè)微尺10/100、測(cè)微臺(tái)尺。
*(7)載物臺(tái)360°旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)精度±1°
3.自動(dòng)移動(dòng)載物臺(tái)要求:
*(1)XYZ三軸電動(dòng)載物臺(tái)通過(guò)軟件控制實(shí)現(xiàn)XY自動(dòng)移動(dòng)和Z軸自動(dòng)調(diào)焦。
*(2)通過(guò)軟件控制和顯微攝像頭形成聯(lián)動(dòng),自動(dòng)移動(dòng)樣品的同時(shí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)采集圖像,并可通過(guò)人工干預(yù)焦距調(diào)節(jié)確保圖像清晰率。
*(3)自動(dòng)移動(dòng)和采集圖像的過(guò)程能夠記錄每幅圖像的坐標(biāo),圖像采集完成后能夠?qū)崿F(xiàn)圖像回溯功能,重新定位已采集的圖像。
*(4)XY軸最小步進(jìn)精度0.05um,Z軸精度0.1um。XY軸復(fù)位重復(fù)精度<1um。
4.顯微數(shù)碼攝像頭技術(shù)條件
(1)通過(guò)軟件控制和自動(dòng)載物臺(tái)形成聯(lián)動(dòng),自動(dòng)移動(dòng)樣品的同時(shí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)采集圖像。
*(2)顯微高精密檢測(cè)專(zhuān)用攝像頭:檢測(cè)精度要求達(dá)到65536級(jí)(16bit);同時(shí)可用于輸出彩色圖像,達(dá)到256×256×256級(jí)色階(24bit)。
*(3) 攝像頭應(yīng)具有足夠的穩(wěn)定工作時(shí)間,其線性范圍應(yīng)覆蓋褐煤-無(wú)煙煤的鏡質(zhì)組反射率范圍。
*(4)芯片為CCD,尺寸為 2/3 Inch CCD(Color)。
*(5) 光學(xué)接口:C-mount(Recommended: 1× )。
5.圖像自動(dòng)采集系統(tǒng)技術(shù)條件
(1)聯(lián)動(dòng)控制載物臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)和顯微攝像頭自動(dòng)采集圖像。
(2)支持多種樣品掃描方式、支持自動(dòng)聚焦方式、自動(dòng)保存原始圖像數(shù)據(jù)。
(3)掃描區(qū)域大小、數(shù)量可選;聚焦模式分為自動(dòng)聚焦/手動(dòng)聚焦,支持暫停/等待拍照;掃描間距支持圖像之間重疊、緊鄰、間隔掃描圖像;掃描回溯支持重新定位并重新掃描。
(4)圖像追溯處理要求可根據(jù)圖像特征,在人工選取煤巖組分時(shí)具有自動(dòng)識(shí)取成片特征相近區(qū)域功能,以減少點(diǎn)擊量;并具有可將已選組分標(biāo)注合成單張圖像以及合成保存功能;當(dāng)修正完畢后,可自動(dòng)統(tǒng)計(jì)全部測(cè)區(qū)的煤巖組分含量。
6.煤巖自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)條件
*(1)測(cè)試過(guò)程可追溯:基于圖像分析法測(cè)試煤的顯微組分含量和鏡質(zhì)組反射率。在計(jì)算機(jī)中保留全部圖像和測(cè)試過(guò)程、測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù),可將測(cè)試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上,可反復(fù)調(diào)閱已測(cè)試樣品的測(cè)試過(guò)程和測(cè)試結(jié)果,便于審核。
*(2)反射率測(cè)試具有半自動(dòng)人工識(shí)別鏡質(zhì)組和全自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組并測(cè)試反射率兩種功能模式。半自動(dòng)人工識(shí)別鏡質(zhì)組模式嚴(yán)格按照現(xiàn)行GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》進(jìn)行測(cè)試。全自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組模式依預(yù)測(cè)模型自動(dòng)判斷鏡質(zhì)體并測(cè)試反射率模式無(wú)需人工干預(yù),自動(dòng)形成反射率測(cè)試報(bào)告。
*(3)顯微組分含量測(cè)試可按照現(xiàn)行GB/T 8899-2013《煤的顯微組分組和礦物測(cè)定方法》進(jìn)行半自動(dòng)(人工)測(cè)試,也可由計(jì)算機(jī)自動(dòng)掃描分析得出煤巖組成(活惰比)數(shù)據(jù)。自動(dòng)測(cè)試可將測(cè)試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上,便于審核。
*(4)自動(dòng)測(cè)試焦炭孔隙參數(shù):通過(guò)掃描焦炭切塊樣品,可提供平均孔隙率(%)、平均孔徑(um)、平均壁厚(um)、孔徑區(qū)間分布及壁厚區(qū)間分布含量等數(shù)據(jù)及相應(yīng)圖表
*(5)半自動(dòng)(人工)檢測(cè)焦炭光學(xué)組織功能:可按照YB/T 077-1995焦炭光學(xué)組織的測(cè)定方法進(jìn)行焦炭光學(xué)組織測(cè)量。
*(6)其它組分測(cè)量功能:可自定義測(cè)量其它需要統(tǒng)計(jì)含量的組成。
7.鏡質(zhì)組反射率人工檢測(cè)技術(shù)條件
滿足MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》的要求。
檢測(cè)光譜主峰為546nm,半峰寬8 nm。
檢測(cè)精度:可分辨0.0001反射率變化。
檢測(cè)區(qū)直徑約2um。
線性:任一標(biāo)樣理論與實(shí)測(cè)值不超過(guò)±0.02%。
穩(wěn)定性:連續(xù)檢測(cè)任一標(biāo)樣30min,波動(dòng)的值與最小值之差不超過(guò)理論值2%。
對(duì)于所測(cè)量的煤的鏡質(zhì)體反射率電信號(hào)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析處理,自動(dòng)得出相應(yīng)的直方圖。
測(cè)試結(jié)果可用于仲裁。
8.標(biāo)準(zhǔn)樣品技術(shù)條件
配備藍(lán)寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石三個(gè)一級(jí)標(biāo)樣,符合MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
9.煤巖磨片成套設(shè)備,包括雙盤(pán)研磨、雙盤(pán)拋光、熱成型工具及專(zhuān)用浸油等耗材。
10.售后服務(wù)
軟件終生免費(fèi)升級(jí),所有煤巖反射率及組份測(cè)試新標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布,都能夠及時(shí)更新軟件,滿足新發(fā)布的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)要求。
11.供貨清單總表

序號(hào)
名 稱(chēng)
規(guī)格型號(hào)
產(chǎn)地
數(shù)量
備注
1
顯微鏡
Leica DM 4 P研究級(jí)
德國(guó)
1臺(tái)
2
自動(dòng)移動(dòng)物臺(tái)
MSP9000C
德國(guó)
1臺(tái)
3
顯微攝像頭
MSP 9000C
德國(guó)
1臺(tái)
4
圖像自動(dòng)采集系統(tǒng)
MSP 9000C
德國(guó)
1套
5
煤巖自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)
MSP 9000C
德國(guó)
1套
6
計(jì)算機(jī)、顯示器
聯(lián)想THINKCENTRE M8400t商務(wù)機(jī)CPU:I7-3.4G;內(nèi)存:4G;硬盤(pán):1T;顯示器:21.5英寸。
中國(guó)
1臺(tái)
7
打印機(jī)
HP 1108激光
中國(guó)
1臺(tái)
8
煤巖制樣設(shè)備
鑲嵌機(jī)
磨片機(jī)
雙盤(pán)拋光機(jī)
超聲波清洗機(jī)
上海
1套
9
標(biāo)準(zhǔn)樣品
一級(jí)標(biāo)樣(藍(lán)寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石)
西安
1套
10
穩(wěn)壓器
德力西
1臺(tái)
11
耗材
專(zhuān)用浸油、砂紙等
1套

以下為各部分具體詳細(xì)清單:
顯微鏡(Leica DM 4 P)配置與配件表

序號(hào)
產(chǎn)品部件名稱(chēng)
規(guī)格型號(hào)
產(chǎn)地
數(shù)量
備 注
1
偏光顯微鏡主體
德國(guó)LEICA
1臺(tái)
德國(guó)原裝LEICA(徠卡)生產(chǎn); Basic stand DM4 P TL/RL LED, DM4500主機(jī)座,包含透射光路、調(diào)焦機(jī)構(gòu), 電源部分和液晶顯示以及色溫恒定CCIC控制系統(tǒng)
2
底板有濾色片盒
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Ground plate with filter magazine
3
6孔可對(duì)中物鏡轉(zhuǎn)換頭和反射光路
德國(guó)LEICA
1套
4
電動(dòng)控制孔徑光闌和視場(chǎng)光闌
德國(guó)LEICA
1套
5
DIC插槽
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Aufnahme für DIC Prismen/Kompensator
6
三目筒
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Basic Docu Tube POL BDTP
7
出口適配器
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Tube adapter incl. docu. port
8
360°旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)
德國(guó)LEICA
1個(gè)
DM4500 POL stage with 45° clickstops
9
燈箱(用于反射光路)
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Lamp housing LED
10
Smith反射器
德國(guó)LEICA
1個(gè)
POL cube to Smith, fixed
11
目鏡(有測(cè)微尺)
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br.M +reticule
12
目鏡
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br. M
13
反射光起偏器
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Polarizer L ICR/P w. whole-wave plate
14
360°檢偏器
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Analyzer 360°
15
入補(bǔ)償片
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Whole-wave plate
16
10X物鏡
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Obj. HC PL EPI 10x/0.25 Pol
17
50X物鏡(油鏡)
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Obj. HC PL EPI 50x/0.85 Oil POL
18
反射光濾色片插槽
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Filter slider for IL axis
19
日光型濾片(反射光用)
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Daylight filter DLF
20
測(cè)微臺(tái)尺
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Stage micrometer
21
防塵罩
德國(guó)LEICA
1個(gè)
Dust cover for DM 4 P
22
壓平器
上海
1個(gè)
23
內(nèi)六角隨機(jī)工具
德國(guó)LEICA
1套

制樣設(shè)備部分

1
雙盤(pán)預(yù)磨機(jī)
YM-2A
上海金相
1臺(tái)
雙盤(pán)
2
雙盤(pán)拋光機(jī)
PG-2B
上海金相
1臺(tái)
雙盤(pán),可單盤(pán)控制
3
鑲嵌機(jī)
XQ-1型
上海金相
1臺(tái)
直徑30mm
4
可調(diào)電阻爐
上海
1臺(tái)
1000W
5
小型刀片式粉碎機(jī)
XFB-200
上海
1臺(tái)
6
篩子
1mm
1套
1MM,0.1MM,0.06MM方孔標(biāo)準(zhǔn)篩,頂蓋、底座各1個(gè)
7
電吹風(fēng)
上海
1個(gè)

注:如需塊焦切割機(jī)可選配。
耗材及輔助件類(lèi)清單

序號(hào)
產(chǎn)品名稱(chēng)
規(guī)格型號(hào)
數(shù)量
備 注
1
煤巖專(zhuān)用拋光劑
KD-01P
5Kg
2
煤巖專(zhuān)用拋光布
KD-02P
3張
3
粗磨耐水砂紙
KD-01M
100張
4
細(xì)磨耐水砂紙
KD-02M
100張
5
煤巖專(zhuān)用鑲嵌膠粉
KD-01Z
1Kg
6
煤巖專(zhuān)用浸油
KD-01C
2瓶
23℃ Ne=1.518
7
擦鏡紙
KD-02C
10本
8
水平膠泥
KD-03C
1塊
9
載玻片
KD-04C
1盒
10
磨口滴瓶帶滴管
25ml
3個(gè)
11
吸耳球
1個(gè)
12
塑料燒杯
500ML
2個(gè)
13
裁紙刀
1把
14
坩堝
15個(gè)
15
小鑰勺
5個(gè)
不銹鋼
16
線手套
2副
17
攪拌棒
5根
18
標(biāo)簽液
2瓶
書(shū)寫(xiě)樣品標(biāo)號(hào)
19
預(yù)磨機(jī)膠圈
2個(gè)
20
插排
2個(gè)
六孔以上
21
鼠標(biāo)墊
1個(gè)
22
產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)
1份
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