詳細(xì)介紹
設(shè)備特點(diǎn)
該設(shè)備主要用于紅外杜瓦的真空處理,是無(wú)油、超高真空系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)紅外杜瓦內(nèi)真空獲得、烘烤除氣、工作氣體保護(hù)、氣密性檢測(cè)等制備工藝過(guò)程的控制,具有排氣速度快,極限真空度高等特點(diǎn)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于紅外探測(cè)、航空、航天等業(yè)及民用領(lǐng)域。
技術(shù)性能
1 工位數(shù)為16工位,分兩組,每組8個(gè)工位;
2 極限真空度:熱態(tài)空載狀態(tài)下真空度達(dá)到5~7×10-7Pa;
3 工位口加熱溫度80℃,8路溫度均勻性±1℃,控溫精度±1℃;
4 工位處配置充N2接口,使在卸下工件時(shí)能夠充入N2保護(hù);
5 設(shè)有專用檢漏口,能夠滿足每次在安裝工件后進(jìn)行細(xì)致氦質(zhì)譜檢漏,以避免漏氣狀態(tài)下進(jìn)行排氣過(guò)程。