實(shí)驗(yàn)室滑軌爐PECVD系統(tǒng)設(shè)備

實(shí)驗(yàn)室滑軌爐PECVD系統(tǒng)設(shè)備通過滑動爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度；同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。

功能特點(diǎn)：
本套PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫，配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度；同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇
產(chǎn)品用途：
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品參數(shù)

• 爐體結(jié)構(gòu)：雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫；
• 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩(wěn)
• 爐子可以手動從一端滑向另一端，實(shí)現(xiàn)快速的加熱和冷卻
• 爐蓋可開啟，可以實(shí)時觀察加熱的物料
• 電源電壓：AC220V 50/60Hz；
• 功率：4KW
• 爐管材質(zhì)：高純石英管，高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)極小
• 爐管尺寸：Φ60*1250mm(可定制)
• 加熱系統(tǒng)：加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用
• 加熱區(qū)長度：400mm(可定制)
• 恒溫區(qū)長度：200mm(可定制)
• 工作溫度：≤1150℃(可定制)
• 溫度：1200℃(可定制)
• 升溫速率：10℃/min
• 極限真空：6.0×10-5Pa
• 工作真空：7.6×10-4Pa
• 溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、30段升降溫程序
• 測溫元件：N型熱電偶
• 恒溫精度：±1℃
• 混氣系統(tǒng)：四路質(zhì)量流量計：數(shù)字顯示、氣體流量自動控制、內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥、管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套、每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥、通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量
• 流量規(guī)格：0~200sccm
• 流量精度：±1.5%
• 高真空真空系統(tǒng)：采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達(dá)4.0*10^-4Pa
• 復(fù)合真空計，配置電阻規(guī)+電離規(guī)
• 抽速：110L/S
• 冷卻：風(fēng)冷
• 射頻電源系統(tǒng)輸出功率:0-300W
• 功率穩(wěn)定度：±0.1%
• 射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%
• 反向功率:120W
• 射頻電源電子輸出端口:UHF
• 冷卻:風(fēng)冷
• 電源:AC187-253V 50/60Hz
• 可選配件：混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機(jī)控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。