詳細(xì)介紹
性能優(yōu)勢
科研級CMOS檢測器,全元素分析,開創(chuàng)PPM級元素分析新紀(jì)元
噪聲低 科研級感光元件噪聲小,抗干擾強(qiáng),具備防光暈技術(shù)
抗干擾 CMOS探測器集成度高,可避免外部電路引入噪聲
讀取速度快 采用OEO(Optimal Element-Oriented)技術(shù),像素信號單獨讀取,實現(xiàn)參數(shù)優(yōu)化設(shè)計
紫外響應(yīng)高 超高紫外響應(yīng)靈敏度,無需鍍膜,實現(xiàn)非金屬元素(N,C,S,P)分析,效果更優(yōu)
創(chuàng)新的密封氬氣循環(huán)系統(tǒng)
光室密封性更佳,可保持內(nèi)部氬氣長期純凈
分析環(huán)境相當(dāng)于真空光室10-3Pa,優(yōu)化了短波元素的分析性能
氬氣循環(huán)過濾裝置,可有效濾除空氣分子,提高光室的可靠性
光室內(nèi)外壓力差幾乎為零,可有效避免大氣壓力引起的光學(xué)系統(tǒng)漂移進(jìn)而提高產(chǎn)品的長期穩(wěn)定性
降低充氬系統(tǒng)的氬氣消耗,有效節(jié)約生產(chǎn)成本
穩(wěn)定性升級,重新定義光學(xué)產(chǎn)品穩(wěn)定性
壓鑄鋁合金整體光室,4級消除應(yīng)力處理
光室恒溫設(shè)計,保證光譜位置長期穩(wěn)定,不漂移
氣流路的精確設(shè)計,一切為了結(jié)果更穩(wěn)定
RTMC光譜優(yōu)化技術(shù),帶來更穩(wěn)定的體驗
全數(shù)字脈沖光源,自動選擇能量保證分析的準(zhǔn)確性與重復(fù)性
高性能,更高效,提升適用性
方便的樣品激發(fā)臺
開放式激發(fā)臺,內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小,氬氣消耗大大降低
四路氬氣吹掃,有效清除殘留粉塵,降低激發(fā)臺維護(hù)量
個性化的的樣品夾具
可適用于分析各類大小形狀的樣品
人性化的一鍵式激發(fā)/停止按鈕
樣品裝載激發(fā)一氣呵成,無需軟件操作,直接得到數(shù)據(jù)結(jié)果
檢測時間大大縮短,有效提升工作效率
易用性升級,給用戶更簡單、高效的使用體驗
優(yōu)質(zhì)硬件與特定算法的結(jié)合,多重穩(wěn)定保障,更好地監(jiān)控儀器運行狀態(tài),提升分析效果,減少校準(zhǔn)頻率
支持全譜分析檢測,拓展性更高。增加分析基體和元素?zé)o需增加硬件,通過軟件即可擴(kuò)展分析范圍,使用更靈活
智能曲線功能可滿足對所有材料的分析需求,真正實現(xiàn)未知樣品分析,無需糾結(jié)模型選擇,操作更加簡便
友好的人機(jī)交互設(shè)計,軟件主界面簡潔清晰,圖形化顯示,短時間即可學(xué)會并熟練操作軟件
新增遠(yuǎn)程維護(hù)功能,可遠(yuǎn)程升級固件程序,遠(yuǎn)程檢查儀器狀態(tài),對儀器生命周期健康負(fù)責(zé)
應(yīng)用領(lǐng)域
應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械加工、鑄造、金屬材料科研、航空航天、造船、汽車、海關(guān)檢驗、第三方檢測等諸多領(lǐng)域。