原位X射線散射&透射反應(yīng)裝置

原位X射線散射&透射反應(yīng)裝置（DMHK-XS -200）是一款適用于液體環(huán)境的X射線散射原位測(cè)試（兼容透射模式XAFS）的原位裝置，能夠提供真實(shí)原位水熱環(huán)境、攪拌環(huán)境，溫度、攪拌速率以及中間液層厚度均可適當(dāng)調(diào)節(jié)；反應(yīng)釜光學(xué)窗口結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與出射張角可滿足散射和透射測(cè)試需求；反應(yīng)釜在底部集成了磁力攪拌，實(shí)現(xiàn)了反應(yīng)釜內(nèi)部溫控、攪拌的一體化設(shè)計(jì)，并在應(yīng)用軟件中集成了溫控和攪拌的顯示及控制功能，充分滿足液體環(huán)境X射線散射&透射原位測(cè)試需求。

主要特點(diǎn)

1. 該原位反應(yīng)釜適用于液體環(huán)境的X射線散射原位測(cè)試（兼容透射模式XAFS），提供真實(shí)原位水熱環(huán)境，溫度及中間液層厚度均可適當(dāng)調(diào)節(jié)；

2. 反應(yīng)釜主體外形尺寸：約90*90* 145mm（W*L*H，不含氣路）；腔體容積約：10mL;

3. 反應(yīng)釜釜體材質(zhì)：PEEK+PPL；

4. 光學(xué)窗口：2個(gè)光學(xué)窗口（PEEK包裹金剛石膜，金剛石膜與液體接觸），180°布置，窗口通光直徑4mm，出射張角2θ≦30°(滿足散射測(cè)試需求)，兩側(cè)窗口前端間距約0-2mm;

5. 長(zhǎng)期工作溫度：RT-200℃（設(shè)計(jì)溫度可達(dá)300℃，但不可長(zhǎng)時(shí)間使用，此溫度下密封圈基本是一次性的），控溫精度±1℃；

6. 加熱方式：通過(guò)加熱套給釜體加熱；加熱速率：≤15℃/min;

7. 工作壓力：0.1-5MPa ，頂部數(shù)字式壓力表可監(jiān)測(cè)釜腔壓力，卸荷閥/泄壓閥用于超壓保護(hù)（卸荷閥/泄壓閥開啟/爆破壓力6MPa）;

8. 攪拌支持：腔體內(nèi)可放置磁子，底部集成磁力攪拌，攪拌速率0-1200rpm；

9. 水冷接口：預(yù)留水冷接口，可外接水冷機(jī)，管徑Φ6mm；

計(jì)算機(jī)控制及顯示：USB/網(wǎng)絡(luò)通訊接口；顯示實(shí)時(shí)溫度、攪拌速率，界面操作，控制加熱溫度、加熱速率和攪拌速率。