詳細(xì)介紹
在金屬分析領(lǐng)域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析手段之一。表面處理工藝過(guò)程,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過(guò)分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測(cè)量涂(鍍)層厚度及化學(xué)成分。
對(duì)于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料表面涂鍍層分析問(wèn)題,輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導(dǎo)體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。
主要特點(diǎn):
1.涂(鍍)層材料和均相材料化學(xué)成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測(cè)和測(cè)量
2.濃度分布測(cè)定和表層測(cè)量數(shù)據(jù)的定性/定量評(píng)價(jià)
3.測(cè)定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng),如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式