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JPTD磁控鍍膜系列

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更新時間:2021-08-30 10:48:19瀏覽次數(shù):343

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產(chǎn)品簡介

JPTD磁控鍍膜系列

詳細介紹

型號項目
JPTD-1000L
JPTD-1000LA
JPTD-1000LC
極限真空度   Pa
5.0×10-3(清潔、干燥、空載)
恢復真空時間  Pa
18(從大氣~10-2Pa)
基材
PET、PVC、PE等
有效鍍幅    mm
500
650
800
卷徑    mm
Φ300
鍍膜速度   m/min
ITO靶0.5~1.5m/min 其它靶 5m/min(max)
磁控靶數(shù)目    只
5
6
8
靶材    
銦錫合金(黃銅、紫銅、鎳、鈦等選用)
濺射壓力    Pa
1~0.1
濺射電壓    V
300~600(D.C)
工作氣體
Ar、 O2純度99.99%
需用功率  KVA
52
55
78
冷卻水量    t/h
5   ?。ㄈ肟趬毫?.15~0.2MPa,進水溫度25℃以下)
占地面積      mm
6850×5020×2600
7000×5020×2600
7250×5020×2600

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