詳細介紹
技術指標
多鍍層分析,1~5層;
測試精度:0.001 μm;
元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);
測量時間:10~30秒;
SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;
探測器Be窗0.5mil(12.7μm);
微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);
6個準直器及多個濾光片自動切換;
高清CCD攝像頭(200萬像素),準確監(jiān)控位置;
多變量非線性去卷積曲線擬合;
高性能FP/MLSQ分析;
儀器尺寸:450×520×385mm。
圖譜界面
軟件支持無標樣分析;
寬大分析平臺和樣品腔;
集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;
采用多種光譜擬合分析處理技術;
鍍層測厚分析可達到0.001μm。
分析報告結果
直接打印分析報告;
報告可轉換為PDF,EXCEL格式。